(Fuori produzione) ST0081 Bersaglio di sputtering al cobalto e titanio (Co/Ti)

Descrizione del target di sputtering al cobalto e titanio (Co/Ti)

Il target di sputtering al cobalto e titanio (Co/Ti) offre una soluzione eccellente per le applicazioni di sputtering avanzate. Prodotto con una purezza di almeno il 99%, questo target è disponibile in forma di disco o può essere personalizzato per soddisfare requisiti di progettazione specifici. La sua composizione ottimizzata di Co/Ti offre prestazioni robuste, rendendolo ideale per la deposizione di film sottili nella fabbricazione di semiconduttori, nella microelettronica e nei dispositivi ottici. Il design e la qualità del prodotto garantiscono un funzionamento affidabile anche negli ambienti di lavorazione più difficili.

Applicazioni dei target di sputtering al cobalto e titanio (Co/Ti)

- Fabbricazione di semiconduttori: Ideale per depositare film sottili di alta qualità su wafer di semiconduttori.
- Microelettronica: Migliora le prestazioni dei dispositivi grazie alla deposizione uniforme e affidabile di film.
- Ottica: Utilizzato nella produzione di rivestimenti ottici per migliorare la trasmissione e la riflessione della luce.
- Rivestimenti di superficie: Fornisce rivestimenti durevoli e consistenti per varie applicazioni industriali.
- Ricerca e sviluppo avanzati: Supporta i processi sperimentali nella scienza e nell'ingegneria dei materiali.

Imballaggio del bersaglio di sputtering in cobalto e titanio (Co/Ti)

I nostri target di cobalto titanio (Co/Ti) per sputtering sono imballati con cura meticolosa per preservare l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare requisiti specifici di spedizione e movimentazione.

Domande frequenti

D: Qual è la composizione del target di sputtering?
R: Il target è composto da cobalto e titanio (Co/Ti) con una purezza di almeno il 99%.

D: Quali forme sono disponibili per il target di sputtering?
R: Il prodotto è disponibile in forma di disco o può essere personalizzato per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

D: Quali settori industriali utilizzano tipicamente il target di sputtering al cobalto e titanio (Co/Ti)?
R: È ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nella microelettronica, nell'ottica e per varie applicazioni di rivestimento di film sottili.

D: In che modo la composizione Co/Ti è vantaggiosa per i processi di sputtering?
R: La miscela ottimizzata di cobalto e titanio garantisce un bersaglio ad alte prestazioni che produce film sottili costanti e di alta qualità, anche in condizioni difficili.

D: Posso richiedere una dimensione personalizzata per il mio target di sputtering?
R: Sì, le dimensioni disponibili sono completamente personalizzabili per soddisfare le vostre esigenze applicative.