Fuori produzione (Fuori produzione) ST0079 Bersaglio di sputtering al cobalto-nichel-cromo (Co/Ni/Cr)

Descrizione del target di sputtering Cobalto-Nichel-Cromo (Co/Ni/Cr)

Il target di cobalto-nichel-cromo (Co/Ni/Cr) è un materiale prodotto con precisione per applicazioni avanzate di sputtering. Utilizzando componenti di elevata purezza (≥99%), questo target è ottimizzato per garantire coerenza e prestazioni nei processi di deposizione e rivestimento di film sottili. Il suo design supporta uno sputtering di alta qualità, garantendo risultati affidabili e riproducibili in varie applicazioni industriali. Il target è disponibile in forme di disco standard o può essere personalizzato per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti, offrendo soluzioni versatili per le moderne sfide di produzione.

Applicazioni dei target di sputtering al cobalto-nichel-cromo (Co/Ni/Cr)

- Deposizione di film sottili: Ideale per la produzione di semiconduttori, ottica e microelettronica.
- Rivestimenti superficiali: Fornisce un'eccellente uniformità del film per rivestimenti protettivi e decorativi.
- Ricerca e sviluppo: Utilizzato nella ricerca sui materiali avanzati per le nuove tecniche di sputtering.
- Produzione industriale: Adatto per ambienti di produzione ad alto volume che richiedono proprietà precise dei materiali.

Imballaggio dei target di sputtering al cobalto-nichel-cromo (Co/Ni/Cr)

I nostri target sputtering sono imballati con cura per garantirne l'integrità durante il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti. L'imballaggio standard comprende confezioni sigillate sottovuoto nelle dimensioni specificate dal cliente.

Domande frequenti

D: Quali sono i principali vantaggi del target sputtering Cobalto-Nichel-Cromo?
R: Il target offre un'elevata purezza (≥99%), forme versatili (dischi o personalizzati) e prestazioni eccellenti nelle applicazioni di deposizione e rivestimento di film sottili.

D: Quali processi di sputtering sono compatibili con questo target?
R: È ideale per i processi di sputtering in corrente continua e in radiofrequenza comunemente utilizzati nell'industria dei semiconduttori e dei rivestimenti superficiali.

D: Posso richiedere dimensioni personalizzate per il target di sputtering?
R: Sì, il target è disponibile in dimensioni personalizzate per soddisfare i requisiti di apparecchiature e applicazioni specifiche.

D: Quali industrie traggono i maggiori vantaggi dall'utilizzo di questo target sputtering?
R: Industrie come la produzione di semiconduttori, i rivestimenti ottici, la microelettronica e la ricerca sui materiali avanzati traggono notevoli vantaggi dalle sue prestazioni.

D: Come devo maneggiare e conservare il target di sputtering per mantenerne la qualità?
R: Si raccomanda di conservare il target in un ambiente controllato e di utilizzare un imballaggio sigillato sottovuoto durante il trasporto per preservarne l'integrità e le caratteristiche ad alte prestazioni.