ST0076 Bersaglio per sputtering al cromo e vanadio (Cr/V)

Descrizione del target di sputtering al cromo vanadio (Cr/V)

Il target di cromo vanadio (Cr/V) per sputtering presenta una lega Cr/V di elevata purezza ottimizzata per i processi di deposizione sputtering. Progettato con tecniche di produzione avanzate, questo target garantisce una morfologia uniforme delle particelle e prestazioni affidabili in applicazioni quali la formazione di film sottili e il rivestimento superficiale.

Applicazioni del target di sputtering cromo-vanadio (Cr/V)

- Deposizione di film sottili: Ideale per la produzione di film sottili uniformi per applicazioni di microelettronica e sensori.
- Rivestimenti superficiali: Impiegati nei rivestimenti protettivi e decorativi dei componenti industriali.
- Produzione di semiconduttori: Utilizzata per depositare con precisione strati conduttivi e di barriera.
- Dispositivi optoelettronici: Adatti per applicazioni in LED, celle fotovoltaiche e tecnologie correlate.
- Ricerca e sviluppo: Un materiale prezioso per sviluppare nuove tecniche di sputtering e materiali avanzati.

Imballaggio del bersaglio di sputtering al cromo vanadio (Cr/V)

I nostri target sputtering al cromo vanadio (Cr/V) sono confezionati con cura per mantenere l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto.
Sono disponibili confezioni sigillate sotto vuoto, con opzioni per 5 kg per sacchetto o 25 kg per fusto, che garantiscono versatilità e sicurezza nella spedizione.

Domande frequenti

D: Quali vantaggi offre un target di sputtering al Cr/V per la deposizione di film sottili?
R: La lega Cr/V di elevata purezza garantisce una deposizione uniforme, un'adesione eccellente e migliori proprietà del film, essenziali per le applicazioni di film sottili di qualità.

D: In che modo la personalizzazione delle forme è vantaggiosa per il mio processo di sputtering?
R: Le forme personalizzate consentono di realizzare progetti su misura che soddisfano i requisiti specifici delle apparecchiature, migliorando l'efficienza del processo e l'uniformità della deposizione.

D: Questo target può essere utilizzato nei sistemi di sputtering ad alta frequenza?
R: Sì, la composizione e la purezza del target supportano una serie di tecniche di sputtering, comprese quelle necessarie per le applicazioni ad alta frequenza.

D: Quali sono le misure di controllo della qualità del target?
R: Ogni target è sottoposto a rigorosi test di purezza, precisione dimensionale e integrità strutturale per garantire prestazioni ottimali durante la deposizione.

D: Ci sono requisiti particolari per la conservazione del target di sputtering al Cr/V?
R: Si raccomanda di conservare il target in un ambiente asciutto e a temperatura controllata e in un imballaggio sigillato sotto vuoto per mantenerne l'alta qualità.