ST0073 Bersaglio di cromo molibdeno (Cr/Mo) per sputtering

Descrizione del target di sputtering al cromo-molibdeno (Cr/Mo)

Il target di cromo molibdeno (Cr/Mo) è un materiale ad alte prestazioni progettato per processi di sputtering avanzati. Prodotto con una purezza eccezionale (≥99%) e disponibile in dischi o in forme personalizzate, questo target è fatto su misura per la deposizione di film sottili di precisione. La sua composizione Cr/Mo garantisce prestazioni affidabili in ambienti difficili, rendendolo una scelta eccellente per la lavorazione dei semiconduttori, i rivestimenti ottici e altre applicazioni industriali specializzate. L'inclusione dell'indio e del legame elastomerico ne aumenta l'adattabilità e la durata durante il processo di sputtering.

Applicazioni dei target sputtering al cromo-molibdeno (Cr/Mo)

- Deposizione di film sottili: Ideale per la produzione di semiconduttori e per le applicazioni di rivestimento ottico.
- Tecnologie di rivestimento: Utilizzato nella produzione di rivestimenti durevoli e ad alte prestazioni per l'elettronica e i pannelli di visualizzazione.
- Ingegneria di precisione: Adatta ai processi di sputtering avanzati richiesti dalla ricerca e dallo sviluppo.
- Processi industriali personalizzati: Affidabile in ambienti in cui le forme personalizzate dei target migliorano l'efficienza dei processi.

Imballaggio del target di sputtering al cromo-molibdeno (Cr/Mo)

I nostri target sputtering al cromo molibdeno (Cr/Mo) sono confezionati con cura per mantenerne l'elevata purezza e la forma specializzata.
- Imballaggio sigillato sotto vuoto per evitare la contaminazione.
- Su richiesta, sono disponibili confezioni individuali per garantire un trasporto sicuro.

Domande frequenti

D: Quali sono le applicazioni principali del target di sputtering Cr/Mo?
R: Viene utilizzato principalmente per processi avanzati di deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori, rivestimenti ottici e altre applicazioni industriali di precisione.

D: Il target può essere personalizzato per forma e dimensioni?
R: Sì, il target è disponibile in forma di disco o può essere personalizzato per soddisfare requisiti di processo specifici.

D: Quali vantaggi offre la composizione Cr/Mo rispetto ad altri materiali?
R: La composizione Cr/Mo offre un'elevata purezza e un'eccellente affidabilità nei processi di sputtering, garantendo una deposizione precisa e uniforme di film sottili.

D: Come viene confezionato il target per garantire la qualità durante il trasporto?
R: Il target è sigillato sotto vuoto per prevenire la contaminazione e preservare la sua elevata purezza durante lo stoccaggio e il trasporto.

D: Quali tipi di legami sono utilizzati in questo target di sputtering?
R: Il target utilizza legami di indio ed elastomero, che ne migliorano le prestazioni e l'adattabilità a varie applicazioni di sputtering.