ST0067 Target per sputtering alluminio-silicio (Al/Si)

Descrizione del target di sputtering in alluminio-silicio (Al/Si)

Il target di sputtering alluminio-silicio (Al/Si) è progettato per tecnologie avanzate di deposizione di film sottili e applicazioni elettroniche. Con una composizione di Al/Si e una purezza del ≥99%, questo prodotto offre prestazioni affidabili in vari processi di sputtering. Il nostro target è prodotto meticolosamente per offrire la precisione richiesta nelle moderne applicazioni industriali, garantendo uniformità ed efficienza.

Applicazioni del target di sputtering alluminio-silicio (Al/Si)

- Deposizione di film sottili: Ideale per depositare film di alta qualità nella produzione di semiconduttori ed elettronica.
- Rivestimento di superfici: Adatto per l'applicazione di rivestimenti robusti su strumenti e componenti industriali.
- Ricerca e sviluppo: Utilizzato nelle configurazioni sperimentali e nella ricerca sulla scienza dei materiali per la sintesi di materiali innovativi.
- Processi industriali personalizzati: Adattabili a requisiti di sputtering specializzati in vari settori.

Confezione dei target di sputtering alluminio-silicio (Al/Si)

I nostri target sputtering vengono consegnati in un imballaggio protettivo per garantire che rimangano privi di contaminazione durante il trasporto e lo stoccaggio. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.

Domande frequenti

D: Che cos'è un bersaglio sputtering?
R: Un bersaglio sputtering è una sorgente di materiale utilizzata nei processi di deposizione sputter, in cui gli atomi vengono espulsi dal bersaglio mediante bombardamento ionico per formare film sottili sui substrati.

D: In che modo la composizione di Al/Si favorisce il processo di sputtering?
R: La composizione Al/Si consente di migliorare l'adesione e l'uniformità del film, rendendolo adatto ad applicazioni elettroniche e di rivestimento avanzate.

D: Quale livello di purezza offre questo target e perché è importante?
R: Questo target di sputtering offre una purezza ≥99%, fondamentale per ridurre al minimo le impurità nei film depositati e garantire prestazioni ottimali nelle applicazioni high-tech.

D: Sono disponibili forme personalizzate per questo target di sputtering?
R: Sì, i target sono disponibili come dischi o possono essere personalizzati per soddisfare requisiti specifici di progettazione e applicazione.

D: Quali industrie possono trarre vantaggio dall'uso dei target di sputtering alluminio-silicio (Al/Si)?
R: Industrie come la produzione di semiconduttori, il rivestimento delle superfici, la ricerca e lo sviluppo e altri settori tecnologici avanzati possono trarre grandi vantaggi da questi target sputtering di elevata purezza.