ST0052 Bersaglio per sputtering di stagno (Sn)

Descrizione del target di sputtering allo stagno (Sn)

Il target di sputtering di stagno (Sn) è progettato per applicazioni di sputtering ad alte prestazioni e offre una purezza eccezionale (≥99%) e proprietà affidabili del materiale. Prodotto con precisione, questo target assicura una deposizione efficiente con una formazione uniforme del film, che lo rende una scelta eccellente per l'industria elettronica, dei semiconduttori e dei display. Le sue forme e dimensioni personalizzabili soddisfano le specifiche esigenze industriali, garantendo adattabilità e prestazioni ottimali in diversi sistemi di sputtering.

Applicazioni dei target sputtering di stagno (Sn)

- Fabbricazione di semiconduttori: Essenziale per la deposizione sputtering nella produzione di dispositivi a semiconduttore.
- Tecnologie dei display: Utilizzato nella produzione di film sottili per LCD, OLED e altri pannelli di visualizzazione.
- Rivestimenti di superficie: Ideale per l'applicazione di rivestimenti protettivi in applicazioni ottiche ed elettroniche.
- Optoelettronica: Supporta la produzione di componenti per sensori e altri dispositivi optoelettronici.

Imballaggio dei target di sputtering allo stagno (Sn)

I nostri target sputtering di stagno (Sn) sono imballati con cura per mantenere l'integrità del prodotto durante lo stoccaggio e il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate in base alle specifiche del cliente, per garantire che il prodotto arrivi in condizioni ottimali per l'uso immediato.

Domande frequenti

D: Che cos'è un bersaglio sputtering?
R: Un target sputtering è un materiale utilizzato nei processi di deposizione sputtering per trasferire film sottili su substrati, essenziali nella produzione di semiconduttori, display e dispositivi ottici.

D: Perché si sceglie lo stagno per i target di sputtering?
R: Lo stagno offre un'eccellente conducibilità elettrica e un elevato livello di purezza, garantendo una deposizione uniforme del film e prestazioni elevate in varie applicazioni industriali di sputtering.

D: In che modo la purezza del target influisce sul processo di sputtering?
R: L'elevata purezza (≥99%) riduce al minimo le impurità nel film depositato, migliorando le proprietà elettriche e le prestazioni complessive del prodotto finale.

D: Le forme e le dimensioni del target di sputtering possono essere personalizzate?
R: Sì, i nostri target di sputtering di stagno (Sn) sono disponibili in dischi o possono essere personalizzati per soddisfare i requisiti specifici del progetto.

D: Quali sono i settori industriali che traggono vantaggio dall'utilizzo dei target di sputtering allo stagno?
R: Industrie come la produzione di semiconduttori, la tecnologia dei display, l'optoelettronica e i rivestimenti superficiali si affidano ai target di sputtering allo stagno per una deposizione precisa ed efficiente di film sottili.