(Fuori produzione) ST0050 Target di sputtering al terbio (Tb)

Descrizione del target di sputtering al terbio (Tb)

Il target di sputtering al terbio (Tb) è un materiale di prima qualità preparato per processi di deposizione di film sottili all'avanguardia. Prodotto con tecniche avanzate per garantire un'elevata purezza e consistenza, questo target offre prestazioni eccezionali in varie applicazioni, producendo rivestimenti uniformi e affidabili. Le sue proprietà fisiche superiori lo rendono una scelta ottimale per le industrie che richiedono risultati di sputtering precisi e affidabili.

Applicazioni del target di sputtering al terbio (Tb)

- Microelettronica: Essenziale per la fabbricazione di film sottili precisi nelle tecnologie di visualizzazione e nei dispositivi a semiconduttore.
- Dispositivi magneto-ottici: Utilizzati nella produzione di componenti ottici e magnetici avanzati.
- Rivestimenti a film sottile: Ideali per applicazioni che richiedono elevata uniformità ed eccellenti proprietà di adesione.
- Ricerca e sviluppo: Adatti per esperimenti all'avanguardia nella scienza dei materiali e nelle nanotecnologie.
- Rivestimenti industriali: Impiegati per creare rivestimenti durevoli e ad alte prestazioni per apparecchiature specializzate.

Imballaggio del target di sputtering al terbio (Tb)

I nostri target di sputtering al terbio (Tb) sono imballati in modo sicuro per salvaguardarne l'elevata purezza e l'integrità strutturale durante lo stoccaggio e il trasporto.
Imballaggio sigillato sotto vuoto: Tipicamente disponibile in dimensioni personalizzate per soddisfare i requisiti di processo specifici.

Domande frequenti

D: Quali settori industriali utilizzano tipicamente i target sputtering al terbio?
R: Sono ampiamente utilizzati nei settori dei semiconduttori, della microelettronica e dei dispositivi magneto-ottici per la deposizione di film sottili di alta precisione.

D: Perché lo sputtering RF è consigliato per questo target?
R: Lo sputtering a radiofrequenza fornisce un ambiente di plasma stabile che assicura una deposizione uniforme del film e mantiene l'integrità di obiettivi di elevata purezza come il terbio.

D: In che modo la purezza del target di Terbio sputtering influisce sulle prestazioni?
R: Una purezza ≥99% riduce al minimo le impurità che potrebbero altrimenti compromettere l'uniformità del film e le prestazioni complessive del dispositivo, garantendo risultati affidabili.

D: Le dimensioni del target di sputtering possono essere personalizzate?
R: Sì, il target di sputtering al terbio (Tb) è disponibile in una varietà di dimensioni personalizzate per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione e del sistema di deposizione.

D: Quali misure vengono adottate durante l'imballaggio per proteggere il target sputtering?
R: Il target è sigillato sottovuoto in un imballaggio sicuro per prevenire l'ossidazione e la contaminazione, assicurando che la sua elevata purezza sia mantenuta fino all'uso.