(Fuori produzione) ST0049 Bersaglio di sputtering al tellurio (Te)

Descrizione del target di sputtering al tellurio (Te)

Il target di sputtering al tellurio (Te) è prodotto secondo gli standard di purezza più elevati (≥99%) per garantire prestazioni superiori nelle applicazioni di sputtering RF. Progettato in forme a disco o personalizzate, questo target offre un'efficienza e un'affidabilità eccezionali per la deposizione di film sottili e i relativi processi industriali di alta precisione. Grazie alle sue robuste proprietà fisiche, offre risultati costanti in ambienti difficili.

Applicazioni dei target sputtering al tellurio (Te)

- Deposizione di film sottili: Ideale per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori e circuiti integrati.
- Rivestimenti di superficie: Utilizzato per produrre rivestimenti di alta qualità in applicazioni ottiche ed elettroniche.
- Fabbricazione di dispositivi elettronici: Supporta la produzione di vari componenti elettronici con precisione.
- Ricerca scientifica: Impiegata negli studi sui materiali avanzati e nello sviluppo di prototipi.

Imballaggio dei target di sputtering al tellurio (Te)

I nostri target di sputtering al tellurio sono imballati con cura per mantenere la loro qualità incontaminata durante lo stoccaggio e il trasporto. Ogni target è protetto in contenitori protettivi e sigillati, con opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare i requisiti di movimentazione specifici.

Domande frequenti

D: Qual è l'importanza dell'elevata purezza (≥99%) in questo target sputtering?
R: L'elevata purezza garantisce una contaminazione minima durante lo sputtering, con conseguente qualità superiore del film e prestazioni affidabili in applicazioni di alta precisione.

D: Cosa si intende per sputtering RF nel contesto di questo target?
R: Lo sputtering RF si riferisce all'uso di energia a radiofrequenza per generare un plasma che disloca gli atomi dal materiale target, consentendo la deposizione di film sottili.

D: Posso richiedere una forma personalizzata per il mio target di sputtering?
R: Sì, i nostri target di sputtering al tellurio sono disponibili in varie forme, comprese quelle personalizzate per soddisfare requisiti applicativi specifici.

D: Quali industrie utilizzano comunemente i target sputtering al tellurio?
R: Sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nelle applicazioni di rivestimento superficiale, nella fabbricazione di dispositivi elettronici e nella ricerca scientifica.

D: Come viene imballato il prodotto per garantire che non subisca danni?
R: I target sono confezionati in contenitori protettivi e sigillati, con possibilità di confezionamento personalizzato, per garantire che mantengano la loro qualità durante lo stoccaggio e il trasporto.