Descrizione del target di sputtering al praseodimio (Pr)
Il target di sputtering al praseodimio (Pr) è un materiale di qualità superiore prodotto con una composizione di Pr di elevata purezza (≥99%) ed è disponibile in dischi di precisione o forme personalizzate. Con un punto di fusione di 931℃ e una densità di 6,73 g/cm³, è ottimizzato per i processi di sputtering in corrente continua, garantendo un'uniformità e un'aderenza superiori del film. Questo target di sputtering è particolarmente adatto per le tecniche di deposizione avanzate nei semiconduttori, nei display e nelle applicazioni ottiche, dove le prestazioni e la precisione sono fondamentali.
Applicazioni del target di sputtering al praseodimio (Pr)
- Deposizione di film sottili: Ideale per la creazione di film sottili uniformi nella produzione di semiconduttori e dispositivi elettronici.
- Produzione di display: Utilizzato nella produzione di pannelli per display che richiedono rivestimenti e depositi precisi.
- Rivestimenti ottici: Applicato nei componenti ottici per ottenere rivestimenti riflettenti e antiriflesso di alta qualità.
- Ricerca e sviluppo: Perfetto per le configurazioni sperimentali nella scienza dei materiali per le tecnologie di sputtering e rivestimento.
Imballaggio dei target di sputtering al praseodimio (Pr)
Il nostro target di sputtering al praseodimio (Pr) è confezionato con la massima cura per mantenerne l'integrità e garantire che raggiunga i nostri clienti in condizioni ottimali.
L'imballaggio sottovuoto è disponibile in dimensioni personalizzate in base alle esigenze del cliente.
Domande frequenti
D: Che cos'è un target sputtering?
R: Un target sputtering è un materiale solido utilizzato nei processi di deposizione fisica del vapore per produrre film sottili su substrati attraverso il bombardamento ionico.
D: Come viene garantita l'elevata purezza (≥99%) del target Pr?
R: La purezza viene mantenuta attraverso una lavorazione rigorosa, un controllo di qualità e tecniche di raffinazione specializzate durante la produzione.
D: Quali industrie utilizzano comunemente i target di sputtering al praseodimio?
R: Le applicazioni più comuni includono la produzione di semiconduttori, le tecnologie di visualizzazione, i rivestimenti ottici e vari progetti di ricerca e sviluppo.
D: La forma del target di sputtering può essere personalizzata?
R: Sì, il target di sputtering al praseodimio (Pr) è disponibile in forme standard a disco o può essere personalizzato per soddisfare requisiti applicativi specifici.
D: Quale tecnica di deposizione è consigliata con questo target?
R: Il target è ottimizzato per lo sputtering in corrente continua, ampiamente utilizzato nei processi industriali di deposizione di film sottili.
