Descrizione del target di sputtering al litio (Li)
Il target di sputtering al litio (Li) è progettato con un'elevata purezza del ≥99% per garantire prestazioni ottimali nelle applicazioni di sputtering avanzate. Prodotto in forme a disco o personalizzate, questo target è ideale per i processi di deposizione di precisione in cui la consistenza e l'affidabilità del materiale sono fondamentali. Con un punto di fusione di 180,54℃ e una bassa densità di 0,534 g/cm³, il prodotto offre un'eccellente lavorabilità per applicazioni elettroniche, energetiche e di ricerca. Progettato e prodotto in base a rigorosi controlli di qualità, questo materiale soddisfa gli esigenti standard dei moderni settori industriali.
Applicazioni dei target di sputtering al litio (Li)
- Deposizione di film sottili: Essenziale per i processi di sputtering nella fabbricazione di semiconduttori e dispositivi elettronici.
- Produzione di batterie: Utilizzato nella produzione di batterie al litio ad alte prestazioni e di sistemi di accumulo di energia.
- Ricerca e sviluppo: Ideale per le configurazioni sperimentali di sputtering e per le indagini di scienza dei materiali.
- Rivestimenti di superficie: Adatto per applicazioni che richiedono una deposizione precisa e uniforme del rivestimento.
- Produzione avanzata: Supporta i processi di deposizione personalizzati nei settori aerospaziale, automobilistico e in altre industrie ad alta tecnologia.
Imballaggio del bersaglio di sputtering al litio (Li)
Il nostro target di sputtering al litio (Li) è imballato in modo sicuro per mantenere la sua elevata purezza e integrità durante lo stoccaggio e il trasporto. Le opzioni di imballaggio includono contenitori sigillati sottovuoto o soluzioni di imballaggio personalizzate in base alle esigenze del cliente, garantendo una consegna sicura e prestazioni ottimali al momento del ricevimento.
Domande frequenti
D: Cosa implica una purezza ≥99% per il target di sputtering al litio (Li)?
R: Indica che il target contiene almeno il 99% di litio puro, garantendo prestazioni superiori con impurità minime nelle applicazioni di sputtering.
D: Il target di sputtering al litio (Li) può essere prodotto in forme o dimensioni personalizzate?
R: Sì, oltre alle forme standard dei dischi, il target può essere realizzato su misura per soddisfare requisiti applicativi specifici.
D: Cosa significa "Sputter: N/A" nelle specifiche del prodotto?
R: Significa che il metodo di sputtering o i dettagli del processo non sono assegnati specificamente a questo target, consentendo una certa flessibilità nella sua applicazione in vari sistemi di sputtering.
D: Come viene confezionato il target di sputtering al litio (Li) per evitare la contaminazione?
R: Il target è confezionato in contenitori sigillati sotto vuoto o con soluzioni di imballaggio personalizzate per proteggerlo dai contaminanti ambientali e mantenerne l'elevata purezza.
D: Quali industrie possono trarre vantaggio dall'uso del target di sputtering al litio (Li)?
R: Il target è adatto alle industrie high-tech, tra cui la produzione di semiconduttori, di batterie, il settore aerospaziale, automobilistico e della ricerca.
