ST0022 Bersaglio di sputtering all'iridio (Ir)

Descrizione del target di sputtering all'iridio (Ir)

Il target di sputtering all'iridio (Ir) è un target di elevata purezza progettato per processi di deposizione avanzati. Progettato con precisione e coerenza, questo prodotto offre eccezionali proprietà termiche e fisiche, che lo rendono ideale per la fabbricazione di film sottili di alta qualità utilizzati nella microelettronica, nell'ottica e in altre applicazioni di precisione. Le sue forme e dimensioni personalizzabili assicurano un adattamento perfetto ai vari requisiti dei sistemi di sputtering, mentre la sua struttura robusta garantisce prestazioni e affidabilità eccezionali.

Applicazioni dei target di sputtering all'iridio (Ir)

- Microelettronica: Essenziale per la fabbricazione di film sottili utilizzati nei dispositivi a semiconduttore e nei circuiti integrati.
- Rivestimenti ottici: Ideale per la produzione di rivestimenti riflettenti nell'ottica di precisione.
- Ingegneria delle superfici: Utilizzato in vari processi di deposizione per migliorare le proprietà superficiali dei componenti industriali.
- Ricerca e sviluppo: Fornisce materiale di deposizione ad alta purezza per studi avanzati sulla scienza dei materiali.

Imballaggio del target di sputtering all'iridio (Ir)

Il nostro target di sputtering all'iridio è prodotto e confezionato in base a rigorose misure di controllo della qualità. Viene prodotto su misura in forma di disco o in altre forme personalizzate, a seconda delle esigenze, e accuratamente sigillato in un imballaggio protettivo per mantenere la sua elevata purezza e le sue prestazioni durante lo stoccaggio e il trasporto.

Domande frequenti

D: Che cos'è un bersaglio sputtering e come si usa?
R: Un target di sputtering è un materiale solido utilizzato nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per depositare film sottili su substrati mediante sputtering di atomi dal materiale target.

D: Quale sistema di sputtering è compatibile con questo prodotto?
R: Questo target è stato progettato principalmente per i sistemi di sputtering in corrente continua, garantendo una deposizione stabile e uniforme di film sottili.

D: Il target di sputtering all'iridio (Ir) può essere personalizzato?
R: Sì, è disponibile in varie forme e dimensioni per soddisfare requisiti di produzione specifici, comprese forme personalizzate secondo le necessità.

D: Quali sono i settori che in genere traggono vantaggio dall'uso di questo prodotto?
R: Industrie come la microelettronica, i rivestimenti ottici, l'ingegneria delle superfici e la ricerca sui materiali traggono vantaggio dalle prestazioni stabili e di elevata purezza di questo target di sputtering.

D: Come deve essere conservato e manipolato questo prodotto?
R: Deve essere conservato in condizioni controllate nella sua confezione sigillata per evitare contaminazioni e maneggiato con cura per evitare danni fisici prima dell'installazione nelle apparecchiature di sputtering.