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  • ST0022 Bersaglio di sputtering all'iridio (Ir)

    • ST0022 Bersaglio di sputtering all'iridio (Ir)

    Catalogo no. ST0022
    Composizione Ir
    Numero CAS 7439-88-5
    La purezza ≥99%
    Forma Dischi o dischi personalizzati
    Diametro 2", 3", 4", 5", 6" o personalizzato
    Spessore 0,25", 0,125" o personalizzato
    Tipo di obbligazione Rame, o personalizzato
    Sinonimi Bersaglio di sputtering all'iridio, bersaglio Ir

    Stanford Advanced Materials è un fornitore leader di materiali all'avanguardia progettati per applicazioni industriali ad alte prestazioni. Il nostro impegno per l'innovazione e la qualità garantisce che ogni prodotto soddisfi gli standard rigorosi richiesti dai mercati tecnologici moderni.

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    FAQ

    Quali sono i tempi di consegna per un target di sputtering all'iridio personalizzato?

    A: I tempi di consegna tipici per i formati personalizzati sono di 2-4 settimane dalla conferma dell'ordine. I dischi di dimensioni standard (2"-6") possono essere spediti prima. Contattateci per conoscere la disponibilità attuale.

     

    Perché scegliere l'iridio rispetto ad altri metalli del gruppo del platino come il platino o il rodio?

    A: L'iridio offre il punto di fusione più alto (2.446°C) e la migliore resistenza alla corrosione tra i metalli del gruppo del platino, rendendolo ideale per le applicazioni in ambienti estremi, per le ottiche a raggi X e per i rivestimenti ad alta temperatura dove altri materiali si degraderebbero.

    Consiglia di incollare gli obiettivi Iridium?

    A: Sì, a causa dell'elevato punto di fusione dell'iridio e delle alte densità di potenza spesso utilizzate con questo materiale, raccomandiamo vivamente di incollarlo a una piastra di supporto in rame utilizzando l'indio o l'elastomero per garantire una corretta gestione termica.

    Qual è la differenza tra gli obiettivi di iridio con purezza del 99% e del 99,95%?

    A: la purezza del 99% è adatta alla maggior parte dei rivestimenti ottici e protettivi. La purezza del 99,95% (3N5) è consigliata per applicazioni di semiconduttori, archiviazione dati e ricerca avanzata, dove le impurità in tracce possono influire sulle prestazioni del dispositivo.

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