Fuori produzione (Fuori produzione) ST0019 Bersaglio di sputtering in afnio (Hf)

Descrizione del target di sputtering in afnio (Hf)

Il target di sputtering in afnio (Hf) è stato progettato per le applicazioni di sputtering e deposizione di film sottili più complesse. Realizzato con afnio ad alta purezza, garantisce prestazioni eccellenti nei processi di rivestimento di precisione, assicurando una qualità uniforme del film e una straordinaria affidabilità in ambienti difficili. Ideale per i rivestimenti di semiconduttori, ottici e aerospaziali, questo target beneficia dell'intrinseca resistenza alla corrosione e dell'elevato punto di fusione dell'afnio.

Applicazioni dei target sputtering in afnio (Hf)

- Deposizione di film sottili: Perfetto per creare rivestimenti uniformi e ad alte prestazioni nei dispositivi elettronici e ottici.
- Produzione di semiconduttori: Strumento per la fabbricazione di componenti che richiedono alta precisione e proprietà coerenti dei materiali.
- Aerospaziale e difesa: Utilizzato per strati protettivi e rivestimenti funzionali in cui sono richieste durata e resistenza alle alte temperature.
- Ricerca scientifica: Ideale per le configurazioni sperimentali che prevedono tecniche di sputtering avanzate.

Imballaggio del target di sputtering in afnio (Hf)

I nostri target di sputtering in afnio (Hf) sono imballati in modo sicuro per evitare contaminazioni e danni fisici. Ogni target è tipicamente sigillato sotto vuoto e racchiuso in un imballaggio protettivo, che ne garantisce la qualità dal nostro stabilimento al vostro laboratorio o sito di produzione.

Domande frequenti

D: Quale metodo di sputtering è adatto a questo target?
R: È stato progettato specificamente per i processi di sputtering in corrente continua.

D: Il target di sputtering in afnio (Hf) può essere personalizzato?
R: Sì, i clienti possono richiedere forme e dimensioni personalizzate per soddisfare i loro requisiti applicativi specifici.

D: Quali industrie utilizzano comunemente questo target sputtering?
R: È ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nell'elettronica, nel settore aerospaziale e nella ricerca scientifica.

D: Come viene prodotto il target per garantire un'elevata purezza?
R: Il target è prodotto con processi produttivi controllati che aderiscono a rigorosi standard di qualità per mantenerne la purezza ≥99%.

D: Quali sono le raccomandazioni per la conservazione di questo target?
R: Deve essere conservato in un ambiente pulito e asciutto, possibilmente sottovuoto, per evitare contaminazioni e garantire prestazioni ottimali.