Descrizione del target di sputtering in oro (Au)
Il nostro target di sputtering in oro (Au) è stato progettato per essere utilizzato nei processi di deposizione sputtering, assicurando rivestimenti uniformi di film sottili su una varietà di substrati. Prodotto con un meticoloso controllo di qualità e progettato per soddisfare le rigorose esigenze della produzione di semiconduttori e microelettronica, questo target garantisce prestazioni e affidabilità costanti. L'elevata purezza e le proprietà fisiche ottimali dell'oro lo rendono una scelta ideale per le applicazioni che richiedono un'eccellente conduttività, riflettività e resistenza alla corrosione.
Applicazioni dei target sputtering in oro (Au)
- Produzione di semiconduttori: Utilizzato nella deposizione di sottili strati d'oro per circuiti integrati e dispositivi microelettronici.
- Microelettronica: Ideale per la fabbricazione di interconnessioni ad alte prestazioni e rivestimenti riflettenti in vari componenti elettronici.
- Rivestimenti ottici: Impiegati per creare superfici ad alta riflettività per specchi, sensori e dispositivi ottici.
- Finiture decorative: Utilizzate in applicazioni di rivestimento specializzate per beni di lusso e scopi decorativi.
Imballaggio del bersaglio sputtering in oro (Au)
Il nostro target sputtering in oro (Au) è imballato con cura per mantenere la sua integrità durante il trasporto e lo stoccaggio.
- L'imballaggio standard comprende sacchetti sigillati sottovuoto per proteggere dalla contaminazione, con la possibilità di soluzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti.
Domande frequenti
D: Quali settori industriali utilizzano comunemente il target sputtering in oro (Au)?
R: Il target è utilizzato principalmente nei settori dei semiconduttori, della microelettronica, dei rivestimenti ottici e delle finiture decorative.
D: Quale metodo di sputtering è consigliato per questo target?
R: Questo target è stato progettato per processi di sputtering in corrente continua, garantendo eccellenti prestazioni di deposizione.
D: Come viene mantenuta la purezza del target sputtering in oro (Au)?
R: Il nostro processo di produzione prevede rigorose misure di controllo della qualità per garantire un livello di purezza ≥99%, conforme agli elevati standard industriali.
D: Il target può essere personalizzato in base a dimensioni specifiche?
R: Sì, il nostro target di sputtering in oro (Au) è disponibile in dischi o in forme/dimensioni personalizzate secondo le specifiche del cliente.
D: Quali precauzioni vengono adottate durante l'imballaggio e lo stoccaggio?
R: Il target è sigillato sottovuoto e imballato in modo sicuro per proteggere dalla contaminazione e dai danni fisici durante lo stoccaggio e la spedizione.
