Forno tubolare 1200C per CVD OTF-1200X-HVC3 Descrizione
Ilforno tubolare 1200C per CVD OTF-1200X-HVC3 comprende un forno tubolare della serie OTF-1200X, una stazione di controllo del gas a flusso di massa di precisione, una stazione per alto vuoto e altri componenti essenziali. Questa stazione di lavoro ha una temperatura massima di lavoro di 1200°C e può raggiungere un livello di vuoto finale di 10^-4 torr con il gruppo di tenuta fornito. La stazione di controllo del gas a flusso di massa può miscelare fino a tre tipi di gas e permette ai gas miscelati di fluire in un tubo di quarzo fuso all'interno del forno. Questa configurazione è ideale per condurre esperimenti come la deposizione di vapore chimico (CVD), la diffusione e altri trattamenti termici in condizioni di vuoto e con protezione di gas di schermatura.
Forno tubolare a 1200C per CVD OTF-1200X-HVC3 Caratteristiche tecniche
Forno atubo serie OTF-1200X
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Struttura del forno
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- Involucro in acciaio a doppio strato con raffreddamento ad aria.
- Termostato incorporato per controllare il raffreddamento automatico in caso di temperatura > 55°C.
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Tubo di lavorazione
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- Materiale: Tubo di quarzo fuso
- Un tubo di lavorazione è incluso nel forno.
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Potenza
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2,5KW, 208-240VAC, monofase, 50/60Hz
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Temperatura di lavoro.
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- Temp. max. Temperatura: 1200℃ (1 ora); 1100℃ (continua)
- Velocità di riscaldamento: ≤20℃/min
- Precisione della temperatura: ±1,0
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Lunghezza della zona di riscaldamento
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- Zona di riscaldamento totale: 440 mm
- Temperatura costante. Zona: 150 mm (±1°C)
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Elementi di riscaldamento
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Lega Fe-Cr-Al drogata con Mo
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Regolatore di temperatura Regolatore
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- Controllo automatico PID con segmenti programmabili a 30 passi.
- Precisione della temperatura: ±1°C
- Termocoppia: Tipo K incorporata all'interno del forno
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Tenuta del vuoto
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- Una coppia di flange da vuoto in acciaio inox con:
un manometro meccanico
due valvole a spillo
un connettore KF-25 per la stazione di alto vuoto
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Potenza
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100-110W
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Tensione nominale
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208-240VAC, monofase, 50/60Hz
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Stazione per il vuoto spinto
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Struttura
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Dimensioni carrello mobile: 600 (L) x 600 (L) x 700 (H), mm
Carico massimo: 600 (L) x 600 (W) x 700 (H), mm Carico: 600 libbre sulla parte superiore
Pannello di controllo della pompa molecolare: LCD digitale
Interno: pompa a vuoto
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Portata del volume
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Azoto N2: 33 L/s
Elio He: 39 L/s (2340L/minuto)
Idrogeno H2: 32 L/s
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Campo di lavoro
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Da 1000 mbar a <1E-7 mbar
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Pressione finale
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<1E-8 mbar (senza perdite)
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Controllo del flusso di massa del gas
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Struttura
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Valvola in acciaio inox 316
Serbatoio di miscelazione del gas: Φ80X120mm
600 mm (L) x 745 mm (L) x 700 mm (H)
Pannello di controllo touch screen a colori da 6" per facilitare l'impostazione dei parametri.
Controllo touchscreen e PC remoto commutabile.
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Potenza
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23W per canale
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Tensione nominale
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AC 220V/50Hz monofase
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Forno tubolare a 1200C per applicazioni CVD OTF-1200X-HVC3
- Deposizione chimica da vapore (CVD): Utilizzata per depositare film sottili e rivestimenti su substrati mediante la miscelazione e la reazione di diversi gas ad alte temperature.
- Processi di diffusione: Facilitano il movimento di atomi o molecole all'interno di solidi, essenziali nella produzione di semiconduttori e in altre scienze dei materiali.
- Ricottura: Aiuta ad alleviare le tensioni interne, a migliorare la duttilità e a perfezionare la microstruttura dei materiali.
- Sinterizzazione: Adatta a compattare e formare masse solide da materiali in polvere senza liquefarli, ampiamente utilizzata in ceramica e metallurgia.
- Ricerca sui materiali: Ideale per studiare le proprietà termiche e il comportamento di diversi materiali in condizioni atmosferiche controllate.
Forno tubolare 1200C per CVD OTF-1200X-HVC3 Imballaggio
Il nostro forno tubolare 1200C per CVD OTF-1200X-HVC3 è trattato con cura durante lo stoccaggio e il trasporto per preservare la qualità del nostro prodotto nella sua condizione originale.
Specificazione
Forno atubo serie OTF-1200X
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Struttura del forno
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- Involucro in acciaio a doppio strato con raffreddamento ad aria.
- Termostato incorporato per controllare il raffreddamento automatico in caso di temperatura > 55°C.
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Tubo di lavorazione
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- Materiale: Tubo di quarzo fuso
- Un tubo di lavorazione è incluso nel forno.
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Potenza
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2,5KW, 208-240VAC, monofase, 50/60Hz
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Temperatura di lavoro.
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- Temp. max. Temperatura: 1200℃ (1 ora); 1100℃ (continua)
- Velocità di riscaldamento: ≤20℃/min
- Precisione della temperatura: ±1,0
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Lunghezza della zona di riscaldamento
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- Zona di riscaldamento totale: 440 mm
- Temperatura costante. Zona: 150 mm (±1°C)
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Elementi di riscaldamento
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Lega Fe-Cr-Al drogata con Mo
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Regolatore di temperatura Regolatore
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- Controllo automatico PID con segmenti programmabili a 30 passi.
- Precisione della temperatura: ±1°C
- Termocoppia: Tipo K incorporata all'interno del forno
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Tenuta del vuoto
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- Una coppia di flange da vuoto in acciaio inox con:
un manometro meccanico
due valvole a spillo
un connettore KF-25 per la stazione di alto vuoto
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Potenza
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100-110W
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Tensione nominale
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208-240VAC, monofase, 50/60Hz
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Stazione per il vuoto spinto
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Struttura
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Dimensioni carrello mobile: 600 (L) x 600 (L) x 700 (H), mm
Carico massimo: 600 (L) x 600 (W) x 700 (H), mm Carico: 600 libbre sulla parte superiore
Pannello di controllo della pompa molecolare: LCD digitale
Interno: pompa a vuoto
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Portata del volume
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Azoto N2: 33 L/s
Elio He: 39 L/s (2340L/minuto)
Idrogeno H2: 32 L/s
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Campo di lavoro
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Da 1000 mbar a <1E-7 mbar
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Pressione finale
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<1E-8 mbar (senza perdite)
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Controllo del flusso di massa del gas
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Struttura
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Valvola in acciaio inox 316
Serbatoio di miscelazione del gas: Φ80X120mm
600 mm (L) x 745 mm (L) x 700 mm (H)
Pannello di controllo touch screen a colori da 6" per facilitare l'impostazione dei parametri.
Controllo touchscreen e PC remoto commutabile.
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Potenza
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23W per canale
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Tensione nominale
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AC 220V/50Hz monofase
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