ST9138 Target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5)

Descrizione del target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5)

Il nostro target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5) è progettato per offrire prestazioni eccezionali nei processi avanzati di deposizione di film sottili. Con un livello di purezza del 99,995%, garantisce una contaminazione minima e risultati costanti e di alta qualità in una serie di applicazioni critiche. Ogni target è sottoposto a rigorose misure di controllo della qualità, tra cui un'analisi precisa della microstruttura e test sui metalli in tracce, per garantire una composizione uniforme e proprietà di adesione eccellenti.

Questo target di sputtering è ideale per le applicazioni di semiconduttori, ottica e archiviazione dati, in cui sono essenziali un'integrità e un'affidabilità superiori del film. L'elevata purezza della composizione del titanio favorisce prestazioni stabili e ripetibili, consentendo un controllo preciso dello spessore del film e delle proprietà elettriche. Dai laboratori di ricerca e sviluppo agli impianti di produzione su larga scala, il nostro target di sputtering al titanio 4N5 stabilisce un nuovo standard di qualità, coerenza e durata.

Applicazioni del target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5)

Questo target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5) vanta un notevole livello di purezza del 99,995%, offrendo una maggiore resistenza alla corrosione, un'eccellente conduttività e un'affidabile adesione del film. Queste qualità intrinseche lo rendono indispensabile per la produzione avanzata, i progetti scientifici e i prodotti di consumo di fascia alta. Le sue prestazioni precise contribuiscono alla produzione di rivestimenti uniformi e film sottili durevoli che trovano ampia applicazione in molti settori.

1. Applicazioni industriali

-Applicazione 1: Rivestimento protettivo per parti aerospaziali: Riduce al minimo l'ossidazione alle alte temperature, prolungando la durata delle apparecchiature.

-Applicazione 2: Componenti automobilistici avanzati: Migliora la durezza e la resistenza all'usura per ridurre i tempi di fermo per manutenzione.

2. Applicazioni di ricerca

-Applicazione 1: Studi sperimentali su film sottili: Consente un controllo preciso dello spessore e della composizione del film per l'esplorazione di nuovi materiali.

-Applicazione 2: Sviluppo di semiconduttori: Assicura un'eccellente conduttività per la fabbricazione di dispositivi microelettronici e fotonici affidabili.

3. Applicazioni commerciali

-Applicazione 1: Elettronica di consumo: Crea superfici robuste e resistenti ai graffi per smartphone e dispositivi indossabili.

-Applicazione 2: Rivestimenti architettonici in vetro: Fornisce strati riflettenti e resistenti alla corrosione per migliorare la longevità di finestre e facciate.

Confezione del target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5)

Questi target sputtering al titanio di elevata purezza (4N5) sono accuratamente sigillati in buste di plastica sottovuoto e inseriti in robuste scatole imbottite di schiuma, per evitare danni fisici e contaminazioni. Per una conservazione ottimale, conservateli in un ambiente pulito e asciutto con un controllo stabile della temperatura. Uno strato protettivo aggiuntivo riduce al minimo l'esposizione all'atmosfera, garantendo la conservazione della purezza. Sono disponibili confezioni di dimensioni personalizzate e involucri specializzati per soddisfare i requisiti di progetti specifici, offrendo una maggiore flessibilità per diversi scenari di utilizzo.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Domande frequenti sul target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5)

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5)?

A1: Il target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5) è caratterizzato da un livello minimo di purezza del 99,995%, che garantisce livelli estremamente bassi di impurità metalliche e non metalliche. Presenta eccellenti caratteristiche di duttilità, resistenza alla corrosione e stabilità termica, che lo rendono ideale per le applicazioni di deposizione di film sottili. L'elevata purezza riduce al minimo i difetti nei film depositati, con conseguenti proprietà elettriche e ottiche superiori. Inoltre, ha una granulometria costante e una microstruttura uniforme per prestazioni ottimali.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: Il target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5) deve essere maneggiato con guanti puliti per evitare la contaminazione da oli o particelle. Evitare il contatto diretto con le mani nude o con superfici che potrebbero introdurre impurità. Conservare il target in un ambiente sigillato e privo di umidità, con condizioni di temperatura stabili e un'esposizione minima all'umidità. Se è necessaria una pulizia, utilizzare gli ultrasuoni in una soluzione neutra o in alcol isopropilico. Una corretta etichettatura e la gestione dell'inventario garantiscono ulteriormente una qualità e una tracciabilità durature.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5)?

A3: Il target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5) è generalmente conforme alle specifiche ASTM B348 per la composizione chimica e le proprietà meccaniche. Viene inoltre prodotto in base a rigorosi sistemi di gestione della qualità certificati ISO 9001, che ne garantiscono la tracciabilità e la ripetibilità. Ogni lotto può essere accompagnato da ulteriori certificazioni, come il rapporto di prova del mulino (MTR), per convalidare la purezza e l'analisi elementare. La conformità alle normative RoHS e REACH è spesso garantita, riducendo al minimo le preoccupazioni relative alle sostanze soggette a restrizioni.

Informazioni correlate

1. Proprietà e vantaggi del materiale

Grazie alla fusione di raffinate tecniche metallurgiche con un rigoroso protocollo di purificazione, il target di sputtering in titanio ad alta purezza (4N5) raggiunge un impressionante contenuto di titanio del 99,995%. Questo eccezionale livello di purezza garantisce una contaminazione minima, rendendo il target estremamente prezioso per la fabbricazione di componenti elettronici sensibili, dove anche la più piccola impurità può compromettere la funzionalità. Oltre alla sua elevata purezza, il target offre un'eccezionale resistenza alla corrosione, favorendo una maggiore durata in ambienti operativi difficili.

Offrendo una combinazione equilibrata di resistenza meccanica e duttilità, questo target di titanio 4N5 consente un controllo preciso dei tassi di deposizione per sputtering. La sua struttura a grani ben definiti, ottenuta grazie a processi ottimizzati, porta a film sottili uniformi durante le applicazioni di rivestimento. Questa uniformità è fondamentale non solo per migliorare le prestazioni dei dispositivi, ma anche per mantenere un elevato livello di produzione industriale, il che riflette i notevoli vantaggi che derivano dalla scelta di un target di sputtering in titanio costantemente affidabile.

2. Applicazioni nelle industrie avanzate

Molto apprezzato per la sua versatilità, il target di sputtering al titanio di elevata purezza (4N5) è la scelta preferita nei settori che richiedono standard di qualità elevati. Le aziende produttrici di semiconduttori lo impiegano nei processi di deposizione di film sottili per i microchip, dove strati stabili e uniformi sono fondamentali per ottenere caratteristiche elettriche precise. È anche favorito nella produzione optoelettronica quando si creano rivestimenti delicati per celle fotovoltaiche e altri componenti ad alte prestazioni.

Rinomati istituti di ricerca utilizzano questo target di titanio 4N5 in progetti di ricerca avanzati che si concentrano sullo sviluppo di materiali di nuova generazione. Le sue notevoli prestazioni in condizioni di alto vuoto consentono sperimentazioni all'avanguardia nei settori aerospaziale e biomedico. Al di là dei suoi usi industriali immediati, i risultati affidabili e costanti del target sono diventati una base per le tecnologie emergenti che si basano su rivestimenti riproducibili e privi di difetti.