ST9136 Target di sputtering al platino di elevata purezza (5N)

Descrizione del target di sputtering al platino di elevata purezza (5N)

Il nostro target di sputtering al platino di elevata purezza (5N) è meticolosamente realizzato con platino puro al 99,999%, offrendo una qualità eccezionale per i processi di deposizione di film sottili più impegnativi. La superiore resistenza alla corrosione, la stabilità termica e la conducibilità elettrica del platino lo rendono una scelta indispensabile per le applicazioni nella microelettronica, nelle tecnologie dei sensori e nelle soluzioni di stoccaggio dell'energia. Questo materiale di elevata purezza garantisce una formazione uniforme del film e una contaminazione minima, migliorando le prestazioni e l'affidabilità dei dispositivi.

Prodotto secondo rigorosi standard di qualità, il nostro target di platino 5N è sottoposto a rigorosi test di purezza, densità e finitura superficiale. Il risultato è un target di sputtering che garantisce tassi di deposizione ripetibili e uno spessore costante dello strato in un'ampia gamma di processi produttivi. Sia che stiate sviluppando semiconduttori di nuova generazione o rivestimenti ottici specializzati, il nostro target sputtering di platino ad alta purezza (5N) è il vostro partner di fiducia per ottenere precisione e durata senza pari.

Applicazioni del target di sputtering al platino di elevata purezza (5N)

Questo target sputtering di platino di elevata purezza (5N) offre un'eccezionale inerzia chimica, una straordinaria conduttività e una stabilità termica superiore. Il suo livello di purezza avanzato garantisce impurità minime, rendendolo ideale per le applicazioni in cui precisione e affidabilità sono fondamentali. Sia che venga utilizzato nella produzione industriale, nella ricerca pionieristica o nelle tecnologie commerciali, questo target sputtering ottimizza le prestazioni in condizioni estreme, mantenendo risultati costanti e di alta qualità.

1. Applicazioni industriali

-Applicazione 1: Rivestimenti resistenti alla corrosione di qualità superiore per le apparecchiature di trattamento chimico, che garantiscono una durata a lungo termine e tempi di inattività minimi.

-Applicazione 2: Strati conduttivi ad alte prestazioni nei componenti elettronici, per garantire un'eccellente conduttività e gestione termica.

2. Applicazioni di ricerca

-Applicazione 1: deposizione di film sottili per lo sviluppo di sensori avanzati, che consentono capacità di misurazione precise e affidabili.

-Applicazione 2: sperimentazione della scienza dei materiali nella nanoelettronica, che consente di fare scoperte rivoluzionarie sulle architetture efficienti dei dispositivi.

3. Applicazioni commerciali

-Applicazione 1: placcatura di alta qualità e finiture per gioielli che mantengono la lucentezza e resistono all'appannamento nel tempo

-Applicazione 2: Componenti di alta qualità per dispositivi medici, che offrono biocompatibilità e prestazioni stabili in applicazioni sanitarie critiche.

Confezione del target sputtering di platino ad alta purezza (5N)

Ogni target di sputtering al platino di elevata purezza (5N) è accuratamente racchiuso in un imballaggio antistatico sigillato sottovuoto con imbottitura in schiuma per proteggerlo da danni meccanici. Una barriera a prova di umidità garantisce l'asciutto, riducendo i rischi di ossidazione. Per una maggiore stabilità, conservare in un ambiente controllato, lontano da temperature estreme e contaminanti. La confezione include sigilli a prova di manomissione per mantenere la purezza. Sono disponibili dimensioni di confezionamento e opzioni di etichettatura personalizzate per soddisfare specifiche esigenze di ricerca o di produzione.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Domande frequenti sul target sputtering di platino di elevata purezza (5N)

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del target di sputtering al platino di elevata purezza (5N)?

A1: Il target di sputtering al platino di elevata purezza (5N) ha in genere una purezza del 99,999%, che garantisce la presenza di contaminanti minimi come ferro, nichel o oro. Vanta un'eccellente resistenza alla corrosione, un'elevata stabilità termica e un'eccezionale conducibilità elettrica, che lo rendono ideale per le applicazioni a film sottile più esigenti. La sua densità è di circa 21,45 g/cm³ e può sopportare condizioni di lavorazione estreme senza subire degradazioni, fornendo risultati di deposizione di film uniformi e costanti.

D2: Come devono essere maneggiati e conservati i target di sputtering al platino di elevata purezza (5N)?

A2: Questi target devono essere maneggiati con guanti puliti in un ambiente controllato per evitare la contaminazione della superficie. Conservarli in un contenitore dedicato fatto di materiali non reattivi, lontano da umidità o sostanze chimiche corrosive. Evitare contatti e attriti inutili che potrebbero generare particelle o graffi. Pulire delicatamente la superficie del target con panni asciutti, privi di olio e di pelucchi, per garantire che rimanga immacolata per prestazioni di sputtering ottimali e una lunga durata.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al target di sputtering al platino di elevata purezza (5N)?

A3: Il target di sputtering al platino di elevata purezza (5N) aderisce spesso alla norma ISO 9001 e ad altri standard industriali pertinenti che regolano l'integrità e la tracciabilità dei materiali. Metodi analitici come ICP-MS o GD-MS verificano la composizione elementare e confermano la purezza del 99,999%. I materiali vengono testati per verificare le proprietà meccaniche, la densità e la finitura superficiale. I certificati di analisi sono comunemente forniti per documentare la conformità ai requisiti delle specifiche, garantendo l'affidabilità dei processi critici di ricerca e produzione.

Informazioni correlate

1. Processo di produzione

La produzione del target sputtering di platino ad alta purezza (5N) inizia con metodi di raffinazione avanzati per migliorare la pulizia intrinseca del platino. Questa procedura specializzata prevede in genere molteplici processi di purificazione, con raffinazione ad alta temperatura e tecniche di cristallizzazione precise che rimuovono anche le tracce di contaminanti.

Dopo aver raggiunto gli standard di purezza desiderati, il materiale viene sottoposto a una fase di formatura attentamente controllata per produrre obiettivi con spessore e struttura uniformi. Una combinazione di fusione sotto vuoto, forgiatura a caldo e lucidatura meticolosa assicura che il prodotto finito presenti una struttura a grana superiore, una migliore resilienza e prestazioni di sputtering eccezionali in applicazioni critiche.

2. Applicazioni nelle industrie avanzate

Utilizzato nella microelettronica d'avanguardia, il target di sputtering di platino ad alta purezza (5N) è un materiale chiave per la produzione di strati conduttivi e rivestimenti protettivi ultrasottili. La sua eccezionale purezza aiuta a mantenere stabili le caratteristiche elettriche, rendendolo prezioso per chip, sensori e semiconduttori che richiedono prestazioni costanti e affidabili.

Rinomato per la sua resistenza chimica e la capacità di sopportare temperature estreme, questo target di platino trova ampia utilità anche nei dispositivi medici di fascia alta e nelle ottiche speciali. Ricercatori e produttori si affidano alla sua qualità, purezza e uniformità senza pari per progettare prodotti innovativi che vanno dai componenti impiantabili ai filtri ottici avanzati.