ST7970 Obiettivo planare in lega di molibdeno e niobio MoNb10

Target planare in lega di molibdeno e niobio MoNb10 Descrizione

Il nostro target planare in lega di molibdeno e niobio (MoNb10) è progettato per offrire prestazioni eccezionali in un'ampia gamma di applicazioni complesse. L'aggiunta del 10% di niobio al molibdeno migliora la resistenza meccanica, la stabilità termica e la resistenza all'ossidazione, rendendo questa lega ideale per l'uso nella deposizione di film sottili, nella fabbricazione di semiconduttori e in ambienti di ricerca avanzati. I nostri clienti possono specificare dimensioni e livelli di purezza personalizzati per soddisfare i requisiti di un progetto unico, garantendo un adattamento preciso e prestazioni ottimali per ogni applicazione.

Ogni target planare MoNb10 è sottoposto a rigorose misure di controllo della qualità, per garantire una composizione coerente e una purezza superiore del materiale. Dalla selezione delle materie prime all'ispezione finale, ogni fase del processo produttivo è conforme a standard riconosciuti a livello internazionale. Affidatevi al nostro impegno per la qualità, l'affidabilità e l'innovazione per ottenere la precisione e le prestazioni necessarie per la vostra prossima impresa all'avanguardia.

Target planare in lega di molibdeno e niobio MoNb10 Applicazioni

Il target planare in lega di molibdeno-niobio (MoNb10) è molto apprezzato per la sua eccezionale stabilità termica, resistenza alla corrosione e forza meccanica. Ideale per l'ingegneria dei materiali avanzati, la microstruttura uniforme e l'affidabilità di MoNb10 consentono di ottenere risultati precisi ed efficienti in processi produttivi complessi. Le sezioni seguenti evidenziano le applicazioni chiave in cui le proprietà superiori di questa lega la rendono una scelta privilegiata per diversi settori, dall'elettronica all'ottica.

1. Applicazioni di deposizione di film sottili

- Rivestimento PVD: L'elevato punto di fusione e la composizione stabile di MoNb10 consentono di ottenere strati protettivi uniformi e duraturi su vari substrati.

- Sputtering con magnetron: L'eccellente resa di sputtering della lega garantisce una formazione efficiente del film e uno spessore costante nei sistemi di rivestimento industriali.

2. Applicazioni dei semiconduttori

- Circuiti integrati: La stabilità termica del MoNb10 contribuisce a mantenere le prestazioni e la durata del dispositivo in condizioni di fabbricazione difficili.

- Componenti elettronici: La resistenza alla corrosione di questa lega supporta interconnessioni e contatti affidabili negli assemblaggi elettronici di alta precisione.

3. Applicazioni di rivestimento ottico

- Rivestimenti antiriflesso: La microstruttura uniforme del MoNb10 fornisce rivestimenti ottici efficaci, riducendo l'abbagliamento e migliorando l'efficienza dei dispositivi.

- Rivestimenti a specchio: Le sue robuste proprietà meccaniche e le eccellenti caratteristiche di adesione consentono di ottenere finiture a specchio ad alta riflettività per sistemi ottici avanzati.

Target planare in lega di molibdeno e niobio MoNb10 Confezioni

Ogni target planare in lega di molibdeno-niobio MoNb10 è accuratamente protetto da un involucro di polietilene e da un'imbottitura in schiuma per evitare abrasioni superficiali. Il target viene poi sigillato ermeticamente in un sacchetto sottovuoto di alta qualità per evitare l'ossidazione e la contaminazione durante la spedizione. Per un'ulteriore resistenza agli urti, viene utilizzato un cartone esterno o una cassa protettiva. Sono disponibili misure antiossidazione e personalizzazioni di dimensioni, forma ed etichettatura per soddisfare requisiti specifici.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Molibdeno, niobio, lega di molibdeno e bersaglio planare MoNb10 FAQs

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del target planare MoNb10 in lega di molibdeno e niobio?

A1: La lega molibdeno-niobio target planare MoNb10 combina la resistenza alle alte temperature del molibdeno con la resistenza alla corrosione e la duttilità del niobio. In genere presenta un punto di fusione elevato, superiore a 2.600°C, un'eccellente resistenza all'ossidazione sotto vuoto o in atmosfere inerti e un basso coefficiente di espansione termica. La sua microstruttura può essere finemente controllata per ottimizzare la conducibilità termica, rendendolo adatto per applicazioni esigenti nel campo dei semiconduttori e dei film sottili.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering MoNb10?

A2: I target di sputtering MoNb10 sono generalmente prodotti utilizzando percorsi di metallurgia delle polveri, seguiti da una pressatura a caldo sotto vuoto o da una pressatura isostatica a caldo per garantire una densità uniforme. Dopo il consolidamento, il target viene sottoposto a una lavorazione di precisione per ottenere la finitura superficiale e le tolleranze dimensionali desiderate. Per ottimizzare l'omogeneità microstrutturale possono essere introdotti ulteriori trattamenti termici o processi di distensione. Il controllo di qualità comprende test non distruttivi e verifica della composizione elementare.

D3: Quali sono gli standard di qualità e le certificazioni che si applicano alla lega di molibdeno e niobio Planar Target MoNb10?

A3: La qualità dei target MoNb10 è spesso conforme a certificazioni quali ISO 9001 per la coerenza della produzione, ISO 14001 per la gestione ambientale e gli standard ASTM pertinenti per la composizione chimica e le proprietà meccaniche. La tracciabilità è garantita durante tutta la produzione, accompagnata da rapporti dettagliati sui test dei materiali. Alcuni produttori applicano anche metodi di ispezione avanzati, come i test a ultrasuoni o a correnti parassite, per convalidare l'integrità interna e soddisfare i severi requisiti specifici del settore e dei clienti.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali MoNb10

Il MoNb10 è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering MoNb10 si utilizzano diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.