ST7966 Traguardo rotante al molibdeno 99,95%, diametro. 6 pollici

Obiettivo rotante in molibdeno 99,95%, diametro. 6 pollici Descrizione

Il nostro target rotante al molibdeno, progettato con precisione con molibdeno puro al 99,95%, offre stabilità e prestazioni eccezionali nei processi di deposizione di film sottili più impegnativi. Con un diametro di 15 cm, questo target presenta un'eccellente conducibilità termica e un elevato punto di fusione, garantendo una resistenza superiore al calore e alla corrosione. La sua microstruttura e densità uniformi garantiscono risultati di sputtering affidabili e costanti per gli utenti finali dei settori dei semiconduttori, aerospaziale ed energetico.

Prodotto in base a rigorosi standard di controllo della qualità, il target rotante di molibdeno soddisfa o supera i requisiti industriali di purezza e composizione. Ogni target è sottoposto a un'ispezione rigorosa per verificare la coerenza chimica e l'integrità strutturale, aiutando i produttori a ottenere rivestimenti precisi con una contaminazione minima. Sia che stiate sviluppando prodotti elettronici di nuova generazione o migliorando componenti meccanici, il nostro target rotante di molibdeno offre le prestazioni affidabili di cui avete bisogno per ottenere risultati di alta qualità.

Target rotante al molibdeno 99,95%, diam. 6 pollici Applicazioni

Il target rotante di molibdeno 99,95%, con un diametro di 6 pollici, offre una purezza superiore e una stabilità alle alte temperature, che lo rendono una scelta eccellente per la produzione di rivestimenti affidabili e ad alte prestazioni. La sua struttura robusta aiuta a mantenere una velocità di sputtering uniforme, fondamentale per una qualità costante del film. Che si tratti di deposizione di film sottili, produzione di semiconduttori o rivestimenti ottici, questo target Mo si distingue per l'impressionante conduttività termica, la resistenza alla corrosione e il basso degassamento, assicurando risultati eccezionali nelle applicazioni più impegnative.

1. Applicazioni di deposizione a film sottile

- Rivestimento PVD: Ideale per depositare strati protettivi e decorativi su vari substrati, sfruttando l'elevato punto di fusione e la resistenza alla corrosione del Mo.

- Sputtering con magnetron: Consente una crescita uniforme e stabile del film e rivestimenti ad alta densità, fondamentali per l'industria aerospaziale ed elettronica.

2. Applicazioni dei semiconduttori

- Circuiti integrati: Fornisce strati conduttivi stabili e affidabili grazie all'eccellente conduttività termica del Mo e al minimo rischio di contaminazione.

- Componenti elettronici: Facilita la deposizione precisa su transistor e diodi, favorendo la miniaturizzazione e la fabbricazione di dispositivi ad alte prestazioni.

3. Applicazioni di rivestimento ottico

- Rivestimenti antiriflesso: Migliorano la chiarezza e l'efficienza ottica con film sottili robusti e duraturi su lenti e specchi.

- Rivestimenti per specchi: Offrono un'eccellente riflettività e resistenza all'ossidazione, garantendo prestazioni costanti nei sistemi ottici più esigenti.

Obiettivo rotante in molibdeno 99,95%, diam. 6 pollici Confezione

Ogni target rotante in molibdeno (99,95%) è accuratamente protetto con inserti di schiuma per evitare danni durante il trasporto. Il pezzo di diametro di 15 cm è sigillato sottovuoto in un sacchetto resistente all'umidità, che fornisce una barriera antiossidazione. Ulteriori pacchetti di essiccante assicurano l'asciugatura. L'imballaggio esterno è costituito da un cartone robusto e personalizzabile, etichettato con le specifiche del prodotto. Su richiesta, sono disponibili marchi, etichette e materiali protettivi aggiuntivi per soddisfare esigenze particolari di manipolazione o stoccaggio.

Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

Obiettivo rotante al molibdeno 99,95%, diam. 6 pollici FAQ

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del Molibdeno Rotary Target 99,95%, Dia. 6 pollici?

A1: Questo target di molibdeno di elevata purezza presenta un'eccellente conduttività termica, un elevato punto di fusione (~2.623°C) e una notevole resistenza alla corrosione. La purezza del 99,95% garantisce un contenuto minimo di impurità, migliorando la resistenza meccanica complessiva e l'integrità strutturale. Il materiale mantiene una granulometria costante per prestazioni di sputtering uniformi e presenta un basso coefficiente di espansione termica. Queste proprietà lo rendono ideale per le applicazioni più esigenti che richiedono prestazioni stabili in condizioni di calore intenso e di vuoto.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering in Mo?

A2: Un approccio di fabbricazione comune prevede tecniche di metallurgia delle polveri, in cui le polveri di molibdeno vengono pressate, sinterizzate e quindi sottoposte a pressatura isostatica a caldo (HIP) per la densificazione. Dopo la formatura iniziale, vengono applicate fasi di lavorazione, rettifica e lucidatura specializzate per ottenere il diametro richiesto e una finitura superficiale liscia. Ulteriori processi, come la forgiatura rotativa, possono affinare la struttura dei grani del target, migliorare la consistenza dello sputtering e garantire la conformità a precise specifiche dimensionali.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al target rotante in molibdeno 99,95%, Dia. 6 pollici?

A3: In genere, questi target sono conformi alla norma ASTM B386 per le lastre, le lamiere e i fogli di molibdeno e leghe di molibdeno, garantendo proprietà meccaniche e chimiche verificate. I produttori spesso seguono sistemi di gestione della qualità ISO 9001 per garantire pratiche di produzione coerenti. I documenti di certificazione possono includere rapporti di purezza convalidati da laboratori terzi e schede di ispezione che verificano la tolleranza dimensionale. Questo quadro di qualità completo assicura prestazioni ripetibili e affidabilità per i processi critici di deposizione di film sottili.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo si utilizzano diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.