ST7965 Molibdeno target rotante 99%, diametro 5 pollici

Obiettivo rotante al molibdeno 99%, diametro 5 pollici. 5 pollici Descrizione

Il target rotante al molibdeno 99% con diametro di 5 pollici è un materiale per sputtering robusto e ad alte prestazioni, progettato per applicazioni che richiedono una stabilità termica e una resistenza alla corrosione superiori. Con una purezza del 99,0%, questo target garantisce una contaminazione minima per una deposizione precisa e uniforme nei processi di rivestimento avanzati. Il notevole punto di fusione, la bassa pressione di vapore e l'eccellente conduttività del molibdeno lo rendono ideale per l'uso nei settori dei semiconduttori, dei display, dei pannelli solari e in altri settori produttivi ad alta tecnologia.

Ogni bersaglio viene fabbricato meticolosamente secondo rigorosi standard di qualità, garantendo una microstruttura uniforme e prestazioni affidabili quando è esposto a temperature estreme e a condizioni operative difficili. Il nostro impegno nel controllo della qualità vi consente di ottenere risultati di sputtering stabili e ripetibili, riducendo al contempo i tempi di inattività e gli sprechi di materiale. Scegliete il nostro target rotante al molibdeno per una soluzione affidabile che soddisfi i vostri requisiti più esigenti.

Target rotante al molibdeno 99%, diam. 5 pollici Applicazioni

I target rotanti in molibdeno con purezza del 99% sono noti per la loro eccezionale stabilità termica, la resistenza alla corrosione e la straordinaria conduttività. Utilizzati ampiamente nei processi di deposizione di film sottili, questi target offrono prestazioni affidabili in ambienti ad alto vuoto. Con un diametro di 5 pollici, consentono la deposizione uniforme di film in varie applicazioni industriali. Le loro proprietà superiori li rendono ideali per la produzione di elettronica avanzata, ottica e semiconduttori.

1. Applicazioni di deposizione di film sottili

-Rivestimento PVD: l'elevato punto di fusione e la resistenza meccanica del molibdeno garantiscono strati durevoli e di elevata purezza nei processi di deposizione fisica da vapore.

-Sputtering con magnetron: Le velocità di sputtering costanti di Mo forniscono un controllo affidabile dello spessore del film, essenziale per gli assemblaggi di dispositivi avanzati.

2. Applicazioni dei semiconduttori

-Circuiti integrati: I film di Mo supportano percorsi conduttivi precisi e riducono l'elettromigrazione, migliorando le prestazioni e la durata dei circuiti.

-Componenti elettronici: I rivestimenti di Mo stabili e a bassa contaminazione aiutano a ottenere transistor, condensatori e dispositivi di memoria affidabili con una lunga durata operativa.

3. Applicazioni del rivestimento ottico

-Rivestimenti antiriflesso: La caratteristica di sputtering uniforme del Mo assicura uno spessore costante e prestazioni ottiche nei rivestimenti AR.

-Rivestimenti a specchio: la stabilità chimica e la forte adesione del molibdeno consentono di ottenere superfici riflettenti altamente efficienti e durature in ambienti difficili.

Target rotante al molibdeno 99%, diam. 5 pollici Confezione

Spedito in un involucro di plastica sigillato e imbottito di polietilene espanso, ogni target rotante al molibdeno è inserito in una barriera sigillata sottovuoto che ne impedisce l'ossidazione. Il robusto imballaggio esterno integra materiali che assorbono gli urti e garantisce l'integrità del prodotto durante il trasporto. Per una maggiore protezione, è incluso un pacchetto essiccante per mantenere l'asciutto. Su richiesta, sono disponibili etichette personalizzate, dimensioni dei contenitori e strati protettivi speciali per soddisfare le vostre specifiche esigenze di manipolazione e stoccaggio.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Obiettivo rotante al molibdeno 99%, diam. 5 pollici FAQ

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale di Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 5 pollici?

A1: Questo target di molibdeno di elevata purezza offre un'eccellente conduttività termica, un punto di fusione di circa 2.623°C e una densità di circa 10,2 g/cm³. Il suo livello di purezza (99% minimo) aiuta a minimizzare le impurità durante i processi di deposizione, migliorando la qualità del rivestimento e riducendo i rischi di contaminazione. Il target mantiene inoltre un'eccezionale resistenza meccanica e stabilità dimensionale a temperature elevate, rendendolo adatto alle applicazioni industriali di sputtering e film sottili più impegnative.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target per sputtering Mo?

A2: La lavorazione tipica inizia con polvere di molibdeno di elevata purezza che viene sottoposta a tecniche di metallurgia delle polveri, tra cui la pressatura e la sinterizzazione sotto vuoto o in condizioni atmosferiche controllate. Il materiale viene poi laminato a caldo o forgiato a rotazione per ottenere il diametro e la densità desiderati. Le fasi di post-lavorazione possono comprendere la lavorazione o la rettifica per garantire una geometria uniforme e tolleranze dimensionali precise. Infine, può essere applicato un trattamento termico per affinare la struttura dei grani e ottimizzare le proprietà meccaniche.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 5 pollici?

A3: In genere, questi bersagli sono conformi alle specifiche ASTM B386 per i materiali di molibdeno, che definiscono i requisiti di composizione e proprietà meccaniche. I produttori spesso mantengono la certificazione ISO 9001 per la gestione della qualità, garantendo i controlli di processo e la tracciabilità. Altre certificazioni di terzi possono essere ottenute per convalidare la purezza, la densità e la finitura superficiale. Questi standard garantiscono prestazioni costanti, conformità alle normative del settore e proprietà affidabili dei materiali per i processi di sputtering o di deposizione di film sottili.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo vengono utilizzati diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.