ST7960 Obiettivo rotante al molibdeno 99,95%, diametro. 4 pollici

Obiettivo rotante in molibdeno 99,95%, diametro. 4 pollici Descrizione

Il target rotante al molibdeno 99,95%, con un diametro di 4 pollici, è stato progettato specificamente per applicazioni che richiedono prestazioni eccezionali in ambienti corrosivi e ad alta temperatura. Grazie alla sua notevole conducibilità termica, all'elevato punto di fusione e alla robusta resistenza all'usura e all'ossidazione, il molibdeno garantisce risultati costanti e di alta qualità nei settori del rivestimento sotto vuoto, della produzione di semiconduttori e della ricerca sui materiali avanzati. Inoltre, la bassa pressione di vapore del materiale riduce al minimo i rischi di contaminazione, rendendolo la scelta migliore per i professionisti che cercano affidabilità e precisione.

Ogni bersaglio viene sottoposto a un'ispezione rigorosa per confermarne la composizione chimica, la resistenza meccanica e l'accuratezza dimensionale. Prodotti in conformità ai rigorosi standard industriali, questi target favoriscono tassi di deposizione stabili e uno spessore uniforme del rivestimento. Sia che si tratti di componenti elettronici all'avanguardia o di componenti aerospaziali critici, i nostri target rotanti in molibdeno offrono la qualità affidabile, la durata prolungata e le prestazioni costanti richieste dalle industrie high-tech di oggi.

Target rotante al molibdeno 99,95%, diam. 4 pollici Applicazioni

I target rotanti in molibdeno con purezza del 99,95% e diametro di 4 pollici offrono vantaggi unici nei processi basati sul vuoto. L'elevata conduttività termica, la bassa pressione di vapore e l'eccellente resistenza alla corrosione li rendono affidabili in ambienti difficili. Queste proprietà consentono la deposizione stabile di film sottili, il miglioramento delle prestazioni dei semiconduttori e la precisione dei rivestimenti ottici. Le seguenti applicazioni mostrano come i target di sputtering Mo possano migliorare significativamente la produttività e la qualità del prodotto.

1. Applicazioni di deposizione di film sottili

-Rivestimento con deposizione fisica da vapore (PVD): L'elevata purezza e stabilità termica consentono rivestimenti uniformi e aderenti ai substrati.

-Sputtering con magnetron: La bassa soglia di sputtering garantisce alti tassi di deposizione, riducendo i tempi di produzione.

2. Applicazioni dei semiconduttori

-Circuiti integrati: La conducibilità elettrica e l'affidabilità del molibdeno favoriscono le prestazioni avanzate dei chip.

-Elettrodi di gate: la composizione stabile del materiale garantisce un controllo preciso nella progettazione dei transistor.

3. Applicazioni di rivestimento ottico

-Rivestimenti antiriflesso: Le eccellenti proprietà di dispersione consentono un'efficiente trasmissione della luce e perdite di riflessione minime.

-Specchi di alta precisione: Le superfici resistenti alla corrosione mantengono la qualità ottica in condizioni di alta temperatura.

Bersaglio rotante in molibdeno 99,95%, diam. 4 pollici Confezione

I target rotanti al molibdeno (purezza 99,95%, diametro 4 pollici) sono accuratamente imballati con strati di schiuma protettiva e racchiusi in buste sigillate sottovuoto per proteggerli dall'umidità e dall'ossidazione. Per la protezione dagli urti viene utilizzato un cartone ondulato esterno o una cassa di legno. Ogni target viene spurgato con gas inerte per ridurre al minimo l'ossidazione durante il trasporto. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate, tra cui etichettatura specializzata e materiali protettivi su misura, per soddisfare requisiti unici.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Obiettivo rotante al molibdeno 99,95%, diam. 4 pollici Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale di Molybdenum Rotary Target 99,95%, Dia. 4 pollici?

A1: Il Molibdeno Rotary Target 99,95%, Dia. 4 pollici presenta un elevato punto di fusione di 2623°C, un'eccellente conducibilità termica ed elettrica e un'eccezionale resistenza alla corrosione. Con una densità di ~10,22 g/cm³, offre una robusta resistenza meccanica e impurità minime, mantenendo prestazioni ottimali nei processi sotto vuoto più impegnativi. Inoltre, questo livello di purezza garantisce una contaminazione minima durante la deposizione di film sottili, rendendolo ideale per applicazioni di semiconduttori, solari e display.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering al Mo?

A2: Il target rotante di molibdeno può essere lavorato utilizzando la pressatura isostatica a caldo (HIP), seguita da una lavorazione di precisione per ottenere il diametro e la finitura superficiale desiderati di 4 pollici. Le fasi di sinterizzazione sotto vuoto o ad alta temperatura assicurano la corretta struttura dei grani e una densità uniforme, mentre le strette tolleranze dimensionali vengono mantenute mediante fresatura o tornitura CNC. Ogni fase preserva la purezza e l'integrità meccanica dell'obiettivo.

D3: Quali sono gli standard di qualità e le certificazioni applicabili al target rotante di molibdeno 99,95%, Dia. 4 pollici?

A3: Questo bersaglio rotante di molibdeno soddisfa o supera gli standard industriali come l'ASTM B386 per le lastre e i fogli di molibdeno, anche se adattati alle configurazioni dei bersagli rotanti. Molti produttori possiedono anche la certificazione ISO 9001, che garantisce pratiche di gestione della qualità e tracciabilità rigorose. Prima della spedizione, ogni bersaglio viene sottoposto ad analisi della composizione chimica, a test a ultrasuoni e a ispezioni dimensionali per verificare la purezza, l'integrità strutturale e l'aderenza alle tolleranze specificate.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo si utilizzano diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.