ST7959 Target di sputtering al molibdeno 99%, diametro. 6 pollici

Target di sputtering al molibdeno 99%, diam. 6 pollici Descrizione

Il nostro target sputtering al molibdeno, con un livello di purezza del 99,0%, offre un'eccezionale integrità del materiale per applicazioni di deposizione di film sottili ad alte prestazioni. Questo target, del diametro di 15 cm, è composto da molibdeno di alta qualità, rinomato per la sua eccezionale conducibilità elettrica, l'elevato punto di fusione e la superiore resistenza alla corrosione. La sua resistenza meccanica e la stabilità termica assicurano risultati costanti e affidabili, anche in condizioni di sputtering rigorose.

Realizzato meticolosamente secondo rigorosi standard di controllo della qualità, questo target presenta una struttura a grani uniformi che favorisce tassi di sputtering stabili e un'uniformità ottimale dello spessore del film. Ideale per l'uso nella produzione di semiconduttori, di celle solari e in vari processi di rivestimento, il nostro target di sputtering al molibdeno offre prestazioni affidabili e soddisfa gli esigenti requisiti del settore. Affidatevi alle sue eccellenti proprietà e alla sua qualità costante per una deposizione di film sottili precisa ed efficiente.

Target di sputtering al molibdeno 99%, diam. 6 pollici Applicazioni

Questo target di sputtering in molibdeno, con una purezza del 99% e un diametro di 6 pollici, offre una notevole resistenza meccanica, un elevato punto di fusione e una conduttività termica superiore. È ampiamente utilizzato in una varietà di settori che richiedono precisione e affidabilità nella deposizione di film sottili. La sua resistenza alla corrosione e le sue proprietà elettriche stabili lo rendono un componente essenziale per i rivestimenti avanzati nei settori dei semiconduttori, dell'elettronica e dell'ottica. Di seguito sono riportati alcuni settori chiave in cui trova applicazioni significative.

1. Applicazioni di deposizione a film sottile

-Rivestimento PVD: utilizzato per creare rivestimenti uniformi e ad alta densità con eccellente adesione e durata.

-Magnetron Sputtering: Assicura una generazione stabile del plasma e uno spessore costante del film grazie alla tolleranza del molibdeno alle alte temperature.

-Sputtering a fascio ionico: Facilita un controllo preciso dello spessore del film e un elevato utilizzo del target, riducendo i costi di produzione.

2. Applicazioni dei semiconduttori

-Formazione dell'elettrodo di gate: Garantisce prestazioni elettriche affidabili e una lunga durata grazie alla sua conduttività stabile.

-Strati barriera: offrono un efficace controllo della diffusione nelle strutture dei dispositivi, migliorando l'affidabilità e le prestazioni dei componenti.

-Elementi di imballaggio dei chip: Contribuisce a soluzioni di imballaggio robuste, resistendo alle sollecitazioni termiche dei dispositivi high-tech.

3. Applicazioni del rivestimento ottico

-Specchi laser: riduce al minimo la distorsione termica e resiste ai danni indotti dal laser, garantendo prestazioni affidabili dello specchio.

-Beam Splitters: consente di ottenere precisi rapporti di riflessione/trasmissione sfruttando il comportamento costante del molibdeno nello sputtering.

-Rivestimenti per filtri: offrono un'eccellente chiarezza ottica e uno spessore uniforme nei filtri specializzati.

Target di sputtering al molibdeno 99%, diam. 6 pollici Confezione

Il nostro target di sputtering al molibdeno (99%, diametro 6 pollici) viene prima avvolto in una pellicola di plastica con essiccante per tenere lontana l'umidità, poi imbottito con schiuma di polietilene per proteggere dagli urti. Successivamente, viene sigillato sotto vuoto in una busta di alluminio per evitare l'ossidazione e la contaminazione. Infine, viene spedito in un robusto cartone ondulato. Su richiesta sono disponibili etichette personalizzate, strati protettivi aggiuntivi e materiali alternativi per i contenitori.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Target di sputtering al molibdeno 99%, Dia. 6 pollici Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale di Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 6 pollici?

A1: Il target di sputtering al molibdeno 99%, Dia. 6 pollici è tipicamente caratterizzato da un elevato punto di fusione (~2620°C), un'eccellente conducibilità termica e un'ottima resistenza meccanica alle alte temperature. Con una purezza del 99%, presenta bassi livelli di impurità che supportano prestazioni di sputtering costanti e deposizione uniforme di film. Il diametro di 6 pollici offre un'ampia superficie per processi di rivestimento efficienti e prolunga la durata del target, riducendo la frequenza delle sostituzioni.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering al Mo?

A2: I target di molibdeno possono essere prodotti attraverso la metallurgia delle polveri, la pressatura isostatica a caldo (HIP) o la sinterizzazione sotto vuoto, che garantisce una densità e una raffinatezza dei grani ottimali. Dopo il processo iniziale di densificazione, il target viene spesso lavorato per ottenere lo spessore desiderato e lucidato per produrre una superficie liscia. Una manipolazione accurata è essenziale per evitare la contaminazione e i danni microstrutturali, garantendo proprietà uniformi del film e prestazioni affidabili durante le applicazioni di sputtering.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al target di sputtering al molibdeno 99%, Dia. 6 pollici?

A3: Questi target di sputtering al molibdeno sono in genere conformi alle rigorose specifiche ASTM B386 o a quelle di materiali equivalenti. I processi di produzione sono spesso conformi ai sistemi di gestione della qualità ISO 9001, che garantiscono la tracciabilità delle materie prime, dei parametri di produzione e dell'ispezione finale. La verifica della purezza può essere condotta con analisi ICP-MS o GD-MS. Inoltre, viene fornita una documentazione completa sulla composizione chimica, sulle misure dimensionali e sulle proprietà meccaniche per mantenere la qualità e la coerenza del prodotto ai vertici del settore.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo vengono utilizzati diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.