ST7958 Target di sputtering al molibdeno 99,9%, diametro. 6 pollici

Obiettivo di sputtering al molibdeno 99,9%, diam. 6 pollici Descrizione

Il nostro target di sputtering al molibdeno, con un'eccezionale purezza del 99,9% e un diametro di 6 pollici, è apprezzato per la sua eccezionale resistenza meccanica, l'elevata conduttività termica e la notevole resistenza alla corrosione. L'elevato punto di fusione del molibdeno, pari a 2.623°C, ne garantisce la stabilità a temperature estreme, offrendo prestazioni affidabili nei processi di deposizione di film sottili. La sua densità uniforme garantisce difetti minimi, assicurando risultati di sputtering coerenti e ripetibili.

Ideale per i settori della microelettronica, dei semiconduttori e dell'ottica, questo target di sputtering al molibdeno soddisfa rigorosi standard di qualità e rappresenta una scelta affidabile per le applicazioni di rivestimento avanzate. Ogni target è sottoposto a rigorosi controlli e test per mantenerne la purezza e l'integrità, garantendo uniformità e adesione ottimali del film. Grazie alla sua composizione di alta qualità e alla precisione delle dimensioni, questo target è progettato per eccellere negli ambienti di ricerca e produzione più esigenti.

Bersaglio di sputtering al molibdeno 99,9%, diametro 6 pollici Applicazioni

Questo target di sputtering al molibdeno 99,9% (diametro 6 pollici) offre una conducibilità termica unica, un elevato punto di fusione e un'eccellente resistenza alla corrosione che lo rendono indispensabile per una serie di processi produttivi avanzati. Poiché i target di molibdeno consentono una formazione precisa del film e tassi di deposizione stabili, sono ampiamente utilizzati per la deposizione di film sottili, la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore e le applicazioni di rivestimento ottico, promuovendo l'innovazione e le massime prestazioni in diversi settori.

1. Applicazioni di deposizione di film sottili

- Rivestimento PVD: La stabilità del molibdeno alle alte temperature consente di ottenere uno spessore costante e uniforme del film per i rivestimenti protettivi.

- Sputtering magnetronico: La purezza e la resistenza alla corrosione del target garantiscono una deposizione precisa dello strato metallico e un'adesione affidabile su vari substrati.

2. Applicazioni dei semiconduttori

- Circuiti integrati: La sua eccellente conduttività elettrica favorisce la creazione di strati conduttivi ultrasottili per circuiti ad alta densità.

- Componenti elettronici: La bassa espansione termica del molibdeno contribuisce a mantenere strette le tolleranze nei componenti microelettronici.

3. Applicazioni di rivestimento ottico

- Rivestimenti antiriflesso: Le precise proprietà di sputtering del target promuovono strati ottici uniformi per ridurre l'abbagliamento.

- Rivestimenti a specchio: L'elevata riflettività e la stabilità a temperature elevate contribuiscono alla produzione di superfici riflettenti durevoli e di alta qualità.

Bersaglio di sputtering al molibdeno 99,9%, diam. 6 pollici Confezione

Ogni target di sputtering al molibdeno (99,9%, diametro 6 pollici) è accuratamente racchiuso in un'imbottitura di schiuma e sigillato in un sacchetto sottovuoto per ridurre al minimo l'ossidazione e l'esposizione ambientale. Un pacchetto essiccante è incluso per assorbire l'umidità residua, preservando ulteriormente l'integrità del prodotto. L'imballaggio è progettato per gli standard di trasporto internazionali e può essere personalizzato in base ai requisiti del progetto. Le misure antiossidazione garantiscono prestazioni affidabili, mentre l'imballaggio sottovuoto protegge dai contaminanti durante la spedizione e lo stoccaggio.

Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

Target di sputtering al molibdeno 99,9%, Dia. 6 pollici Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale di Molybdenum Sputtering Target 99.9%, Dia. 6 pollici?

A1: Il target sputtering di molibdeno 99,9%, Dia. 6 pollici è caratterizzato da un punto di fusione elevato, intorno ai 2.623°C, da una densità di 10,2 g/cm³ e da un'eccellente conducibilità termica ed elettrica. La purezza del 99,9% garantisce una contaminazione minima, rendendolo adatto ad applicazioni complesse nella produzione di semiconduttori e display. La sua bassa espansione termica e l'eccezionale stabilità meccanica contribuiscono ulteriormente a controllare con precisione le proprietà del film e a ottenere risultati di deposizione sputter altamente uniformi.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering in Mo?

A2: La produzione tipica del target sputtering di molibdeno 99,9%, Dia. 6 pollici prevede la metallurgia delle polveri o la pressatura a caldo sotto vuoto per ottenere densità e purezza elevate. Il materiale del target può anche essere sottoposto a laminazione o forgiatura a caldo per affinare la struttura dei grani e migliorare l'integrità meccanica. Le fasi finali di lavorazione e lucidatura assicurano dimensioni precise, finitura superficiale e spessore uniforme, ottimizzando le prestazioni del target durante i processi di sputtering.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al target di sputtering in molibdeno 99,9%, Dia. 6 pollici?

A3: Gli standard comuni per il target di sputtering al molibdeno 99,9%, Dia. 6 pollici includono la conformità alle specifiche ASTM B386 o B387, che regolano la composizione chimica e l'integrità meccanica. I produttori spesso mantengono la certificazione ISO 9001 per garantire una qualità e una tracciabilità costanti. Rigorosi processi di ispezione, tra cui test a ultrasuoni e analisi chimiche, confermano i livelli di purezza e l'accuratezza dimensionale. I certificati dei materiali accompagnano in genere ogni spedizione, convalidando queste garanzie di qualità e certificazioni.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo vengono utilizzati diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.