ST7957 Target di sputtering al molibdeno 99,95%, diametro. 6 pollici

Obiettivo di sputtering al molibdeno 99,95%, diam. 6 pollici Descrizione

Il nostro target di sputtering al molibdeno offre prestazioni eccezionali grazie all'elevato livello di purezza del 99,95% e alle robuste proprietà del materiale. Con un diametro di 6 pollici, è stato progettato con precisione per garantire una deposizione affidabile e uniforme nelle applicazioni a film sottile. Le notevoli caratteristiche del molibdeno, come l'elevato punto di fusione e l'eccellente conducibilità termica ed elettrica, rendono questo target ideale per la produzione di film in grado di resistere a temperature estreme e ad ambienti operativi difficili. La sua eccezionale resistenza alla corrosione garantisce inoltre una lunga durata e una qualità costante dei film.

Prodotto e testato secondo rigorosi standard di controllo della qualità, questo target di molibdeno mantiene un'integrità compositiva e un'accuratezza dimensionale superiori. Di conseguenza, è comunemente utilizzato nella produzione di semiconduttori, celle solari e display, dove purezza e coerenza sono fondamentali. Sia che venga utilizzato per rivestimenti di film sottili o per progetti di ricerca avanzati, questo target di sputtering fornisce risultati affidabili e adatti ai requisiti esigenti delle tecnologie all'avanguardia.

Bersaglio di sputtering in molibdeno 99,95%, diametro 6 pollici Applicazioni

Il target di sputtering in molibdeno (Mo) con purezza del 99,95% e diametro di 6 pollici offre un'eccezionale stabilità termica, un elevato punto di fusione e un'eccellente conduttività. Queste proprietà ne fanno una scelta privilegiata per diverse applicazioni nella deposizione di film sottili, nella produzione di semiconduttori e nei rivestimenti ottici. La sua resistenza alla corrosione garantisce inoltre prestazioni durature in ambienti difficili.

1. Applicazioni di deposizione di film sottili

- Rivestimento PVD: L'elevato punto di fusione e la robusta resistenza meccanica del molibdeno lo rendono ideale per i processi avanzati di deposizione fisica da vapore, garantendo film uniformi e una maggiore durata del target.

- Sputtering con magnetron: L'eccellente stabilità termica e i bassi livelli di impurità contribuiscono alla crescita costante del film, fondamentale per i componenti tecnici e ottici specializzati.

2. Applicazioni dei semiconduttori

- Circuiti integrati: L'elevata conduttività e la compatibilità del Mo con i substrati di silicio consentono interconnessioni e barriere di diffusione affidabili, migliorando le prestazioni complessive dei circuiti.

- Componenti elettronici: Le sue proprietà anticorrosione aiutano a mantenere precise le geometrie dei dispositivi, garantendo un funzionamento stabile e a lungo termine per una varietà di componenti elettronici.

3. Applicazioni del rivestimento ottico

- Rivestimenti antiriflesso: Il comportamento uniforme di sputtering del molibdeno supporta strati di alta qualità a bassa dispersione, migliorando la chiarezza ottica di lenti e sensori.

- Rivestimenti a specchio: Grazie all'eccezionale riflettività e resistenza all'ossidazione, il molibdeno è spesso utilizzato nei sistemi di specchi multistrato, per migliorare le prestazioni degli strumenti scientifici e industriali.

Target di sputtering al molibdeno 99,95%, diam. 6 pollici Confezione

Il nostro target di sputtering al molibdeno (99,95%, diametro 6 pollici) è accuratamente confezionato con inserti di schiuma protettiva per assorbire gli urti e mantenere l'integrità. Ogni bersaglio è sigillato in sacchetti sottovuoto per proteggere dall'umidità e dall'ossidazione. La confezione include strati speciali anticorrosione per prolungare la durata di conservazione. Offriamo soluzioni di imballaggio personalizzabili, come involucri aggiuntivi in metallo o plastica, in base alle vostre specifiche esigenze. Questo garantisce la purezza e la protezione del prodotto durante la spedizione e lo stoccaggio.

Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

Obiettivo di sputtering al molibdeno 99,95%, Dia. 6 pollici FAQ

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale di Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 6 pollici?

A1: Il target di sputtering al molibdeno con purezza del 99,95% offre un'elevata densità (tipicamente 10,2 g/cm³) e vanta un punto di fusione intorno ai 2.623°C. Questa composizione di elevata purezza aiuta a mantenere bassi i livelli di contaminanti, riducendo al minimo le impurità indesiderate nelle applicazioni a film sottile. Con una conducibilità termica di circa 138 W/mK e un'eccellente stabilità meccanica, tollera condizioni operative prolungate, offrendo prestazioni affidabili in applicazioni di semiconduttori, elettronica e ottica.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering al Mo?

A2: Il target di sputtering in molibdeno può essere prodotto attraverso la metallurgia delle polveri o la fusione ad arco sotto vuoto, seguita da fasi di lavorazione meccanica come la forgiatura e la laminazione per ottenere una struttura granulare uniforme. La sinterizzazione ad alta temperatura, la pressatura isostatica a caldo o la pressatura a caldo sotto vuoto possono garantire un'elevata densità e una bassa porosità. Infine, vengono eseguite lavorazioni meccaniche di precisione, rettifica e lucidatura per ottenere le tolleranze di diametro, finitura superficiale e spessore di 6 pollici necessarie per ottenere prestazioni costanti.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 6 pollici?

A3: Questi target sono spesso conformi ai requisiti ISO 9001 per la produzione e la gestione della qualità, garantendo processi produttivi controllati e prestazioni costanti. La purezza viene verificata attraverso rigorose analisi chimiche come la GD-MS, che confermano che il materiale soddisfa le specifiche del 99,95%. Inoltre, possono aderire alle direttive RoHS e REACH per ridurre al minimo le sostanze pericolose. I fornitori forniscono anche certificati di analisi dettagliati, che garantiscono la tracciabilità e verificano la conformità agli standard industriali globali.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo si utilizzano diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.