ST7956 Target di sputtering al molibdeno 99%, diametro. 4 pollici

Target di sputtering al molibdeno 99%, diam. 4 pollici Descrizione

Composto da molibdeno puro al 99,0%, questo target sputtering da 4 pollici di diametro offre prestazioni eccellenti per un'ampia gamma di applicazioni di rivestimento a film sottile. L'elevato punto di fusione, la superiore conducibilità termica e la robusta resistenza meccanica del molibdeno lo rendono una scelta ideale per la produzione di semiconduttori, celle solari e componenti ottici. La sua microstruttura raffinata assicura una formazione uniforme del film e un legame affidabile durante il processo di sputtering, contribuendo a ottenere strati uniformi e risultati costanti.

Prodotto in base a rigorosi standard di qualità, questo target di sputtering al molibdeno soddisfa i requisiti più esigenti degli ambienti di ricerca e produzione avanzati. La chimica bilanciata e il basso contenuto di impurità garantiscono una qualità di deposizione ottimale, mentre la lavorazione di precisione assicura la compatibilità con una varietà di sistemi di sputtering. Affidatevi a questo target per mantenere l'integrità del processo, migliorare i rendimenti dei prodotti e supportare gli obiettivi di progettazione innovativi in settori all'avanguardia.

Target di sputtering al molibdeno 99%, diam. 4 pollici Applicazioni

I target di sputtering in molibdeno (Mo) con purezza del 99% e diametro di 4 pollici offrono una resistenza superiore all'erosione, stabilità alle alte temperature e deposizione costante di film per i processi di produzione avanzati. Essendo un materiale ad alta densità con un'eccellente conducibilità termica ed elettrica, il molibdeno è una scelta privilegiata per la deposizione di film sottili in numerosi settori. Questa introduzione mette in evidenza le principali applicazioni nella deposizione di film sottili, nella produzione di semiconduttori e nei rivestimenti ottici, evidenziando come le proprietà uniche del molibdeno contribuiscano a ottenere rivestimenti affidabili e uniformi.

1. Applicazioni di deposizione di film sottili

- Rivestimento PVD: L'eccellente resistenza all'erosione del molibdeno garantisce un trasferimento stabile del materiale e una maggiore durata del target.

- Sputtering con magnetron: L'alta densità di Mo aiuta a ottenere uno spessore uniforme del film sottile con una contaminazione minima.

2. Applicazioni dei semiconduttori

- Circuiti integrati: La forte conduttività del molibdeno favorisce un flusso di corrente affidabile e connessioni precise ai circuiti.

- Contatti dei transistor: Le proprietà stabili dell'interfaccia del molibdeno consentono di migliorare le prestazioni del dispositivo e di ridurre i tassi di guasto.

3. Applicazioni di rivestimento ottico

- Rivestimenti antiriflesso: Gli strati di molibdeno contribuiscono a ottimizzare la trasmissione della luce e a ridurre al minimo l'abbagliamento.

- Rivestimenti a specchio: I robusti rivestimenti in Mo garantiscono una maggiore riflettività e una lunga durata in condizioni difficili.

Target di sputtering al molibdeno 99%, diam. 4 pollici Confezione

Ogni target di sputtering al molibdeno (99%, diametro 4 pollici) è accuratamente sigillato in un involucro protettivo a doppio strato per evitare graffi o contaminazioni. Viene poi inserito in un sacchetto di plastica sigillato sotto vuoto per garantire l'essiccazione e ridurre al minimo l'ossidazione. Infine, un contenitore esterno rigido con inserti in schiuma previene i danni da impatto. Sono inclusi materiali antiossidanti per prolungare la durata di conservazione. Su richiesta sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Target di sputtering al molibdeno 99%, Dia. 4 pollici Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale di Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 4 pollici?

A1: Questo target di sputtering presenta un elevato punto di fusione di circa 2623°C, un'eccellente conducibilità termica e un'eccezionale resistenza al calore e all'usura. La sua densità di circa 10,2 g/cm³ e la purezza del 99% garantiscono una composizione uniforme e una contaminazione minima. Inoltre, la microstruttura a grana fine contribuisce alla stabilità della velocità di sputtering e alla deposizione regolare del film, mentre il suo basso coefficiente di espansione termica aiuta a mantenere l'integrità dimensionale durante i processi ad alta temperatura.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering al Mo?

A2: Il target viene spesso prodotto utilizzando la metallurgia delle polveri e le successive tecniche di formatura. In primo luogo, la polvere di molibdeno di elevata purezza viene compattata o sinterizzata sotto vuoto per ottenere un materiale denso. Ulteriori fasi, come la forgiatura a caldo o la laminazione, possono affinare ulteriormente la microstruttura. Infine, le operazioni di lavorazione, come la tornitura o la rettifica, assicurano un diametro preciso di 4 pollici e raggiungono la finitura superficiale richiesta per ottenere prestazioni di sputtering ottimali.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al Molybdenum Sputtering Target 99%, Dia. 4 pollici?

A3: La maggior parte dei produttori aderisce alla norma ISO 9001 per la gestione della qualità generale e può anche essere conforme alla norma ASTM B386 o a specifiche equivalenti che regolano i prodotti di molibdeno. In alcuni casi, gli obiettivi possono essere conformi alle direttive RoHS e REACH per confermare l'uso limitato di sostanze pericolose. I rigorosi protocolli di tracciabilità, i test sulla composizione chimica e le ispezioni dimensionali sono implementati per garantire che ogni obiettivo soddisfi la coerenza del prodotto e i requisiti normativi internazionali.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo si utilizzano diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.