ST7955 Target di sputtering al molibdeno 99,9%, diametro. 4 pollici

Obiettivo di sputtering al molibdeno 99,9%, diam. 4 pollici Descrizione

Il nostro target di sputtering al molibdeno (purezza 99,9%, diametro 4 pollici) offre prestazioni eccezionali per un'ampia gamma di processi di deposizione di film sottili. La notevole stabilità termica e meccanica del molibdeno garantisce uno spessore uniforme del film, un'adesione superiore e un controllo preciso delle proprietà del rivestimento. L'elevato punto di fusione e l'eccellente resistenza alla corrosione ne fanno la scelta ideale per ambienti difficili e applicazioni ad alta temperatura. Inoltre, le dimensioni precise e la purezza costante del target si traducono in un minor numero di impurità e in un rischio ridotto di contaminazione durante le operazioni di sputtering.

Grazie a un processo di produzione strettamente controllato e a rigorosi standard di qualità, il nostro target di molibdeno soddisfa i requisiti più esigenti del settore. Che si tratti di microelettronica, pannelli solari o rivestimenti decorativi, questo target di sputtering al molibdeno di qualità superiore garantisce prestazioni affidabili e una maggiore durata. Scegliendo il nostro target di sputtering, potrete beneficiare di rivestimenti di qualità superiore, di una maggiore efficienza delle apparecchiature e di una maggiore tranquillità di fronte ad ambienti di produzione difficili.

Target di sputtering al molibdeno 99,9%, Dia. 4 pollici Applicazioni

Noto per l'elevato punto di fusione, la bassa pressione di vapore e l'eccellente conducibilità termica, il target di sputtering al molibdeno con purezza del 99,9% (diametro di 4 pollici) offre prestazioni superiori in una serie di applicazioni di deposizione. Le sue solide proprietà fisiche garantiscono un'adesione eccezionale e una maggiore uniformità del film. Di seguito sono riportate alcune aree applicative chiave in cui le sue qualità uniche lo rendono una scelta ideale per iprocessi di ingegneria avanzata e di produzione ad alta precisione.

1. Applicazioni di deposizione a film sottile

- Rivestimento PVD: Utilizza l'elevata purezza del target per ottenere film densi e uniformi con una contaminazione minima.

- Sputtering con magnetron: Sfrutta le forti proprietà di adesione del molibdeno per creare strati superficiali durevoli.

2. Applicazioni dei semiconduttori

- Circuiti integrati: Contribuisce alla realizzazione di strati conduttori precisi grazie alle eccellenti prestazioni elettriche del molibdeno.

- Componenti elettronici: Garantisce connessioni affidabili ai circuiti, beneficiando della stabilità termica dell'obiettivo alle alte temperature di lavorazione.

3. Applicazioni di rivestimento ottico

- Rivestimenti antiriflesso: Forniscono un controllo preciso dello spessore del film, migliorando la chiarezza ottica e le prestazioni.

- Rivestimenti a specchio: Offre un'eccezionale riflettività e una forte adesione, che ne fanno la scelta preferita per le superfici riflettenti di alto livello.

Target di sputtering al molibdeno 99,9%, diam. 4 pollici Confezione

Ogni target di sputtering al molibdeno con purezza del 99,9%, diametro di 4 pollici, viene prima racchiuso in schiuma o pluriball, quindi sigillato sotto vuoto per garantire l'asciugatura e prevenire l'ossidazione. L'unità sigillata viene poi collocata in un contenitore robusto e resistente all'umidità per un'ulteriore protezione durante il trasporto. È possibile offrire materiali di imballaggio ed etichettatura speciali opzionali per soddisfare requisiti specifici o standard di spedizione, garantendo che l'obiettivo arrivi in condizioni perfette e mantenga prestazioni ottimali.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Target di sputtering al molibdeno 99,9%, Dia. 4 pollici Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del target di sputtering al molibdeno 99,9%, Dia. 4 pollici?

A1: Questo target di molibdeno offre un elevato punto di fusione di circa 2.623°C, un'eccellente conduttività termica e una bassa espansione termica, che lo rendono stabile in condizioni estreme. La sua densità è di circa 10,2 g/cm³ e garantisce una buona resistenza meccanica e durezza. La purezza del 99,9% garantisce impurità minime, che contribuiscono a mantenere costanti le caratteristiche del film e a ridurre la contaminazione. Il diametro di 4 pollici offre un'ampia superficie per uno sputtering uniforme e alti tassi di deposizione.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering Mo?

A2: In genere, la fabbricazione inizia con polvere di molibdeno di elevata purezza che viene sottoposta a tecniche di metallurgia delle polveri, tra cui la compattazione e la sinterizzazione sotto vuoto. Il grezzo sinterizzato viene poi laminato a caldo o forgiato per affinare la struttura dei grani e aumentare la densità, riducendo al minimo i pori interni. Successivamente, fasi di lavorazione e lucidatura di precisione assicurano che il target raggiunga una planarità ottimale e uno spessore uniforme. Questo processo controllato garantisce prestazioni di sputtering costanti e riduce i difetti del film.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al target di sputtering al molibdeno 99,9%, Dia. 4 pollici?

A3: Gli standard più comuni includono la conformità alle norme ASTM B386 o B387 per i prodotti a base di molibdeno, che garantiscono una composizione chimica e proprietà meccaniche adeguate. I produttori spesso mantengono sistemi di gestione della qualità certificati ISO 9001 per garantire processi produttivi coerenti e tracciabilità. Inoltre, le analisi di laboratorio di terze parti possono verificare la purezza a un livello pari o superiore al 99,9%, misurando impurità come ossigeno e tracce metalliche per garantire la conformità ai requisiti dell'utente finale e alle specifiche del settore.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali di Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo si utilizzano diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.