ST7954 Target di sputtering al molibdeno 99,95%, diametro. 4 pollici

Obiettivo di sputtering al molibdeno 99,95%, diam. 4 pollici Descrizione

Questo target di sputtering al molibdeno è realizzato con precisione a partire da Mo puro al 99,95%, garantendo impurità minime per la deposizione di film sottili di alta qualità. Con un diametro di 4 pollici, offre un'ampia superficie per processi di sputtering sempre affidabili. L'eccezionale conduttività termica e l'elevato punto di fusione del molibdeno contribuiscono a un'eccellente resistenza al calore, rendendolo la scelta migliore per le applicazioni più impegnative nella produzione di semiconduttori, celle solari e display avanzati. Il suo basso coefficiente di espansione termica migliora ulteriormente la stabilità dimensionale, consentendo risultati di rivestimento uniformi e ripetibili.

Rigidi controlli di qualità governano ogni fase della produzione, dalla selezione delle materie prime all'ispezione finale. Grazie alla sua densa microstruttura e alla composizione finemente controllata, questo target offre velocità di sputtering efficienti e una notevole uniformità del film. Il livello di purezza del 99,95% riduce il rischio di contaminazione, consentendo alle operazioni di ricerca e commerciali di ottenere risultati precisi e ripetibili con fiducia.

Target di sputtering al molibdeno 99,95%, diam. 4 pollici Applicazioni

I target di sputtering in molibdeno (Mo) con purezza del 99,95% sono molto apprezzati per la loro eccellente conducibilità termica ed elettrica, l'elevato punto di fusione e la forte resistenza alla corrosione. Questa combinazione unica di proprietà li rende indispensabili in varie applicazioni avanzate. Il formato da 4 pollici di diametro garantisce la compatibilità con una serie di sistemi di sputtering, assicurando una deposizione coerente e uniforme del film. Di conseguenza, i target Mo sono un materiale fondamentale per la deposizione di film sottili, la produzione di semiconduttori e i processi di rivestimento ottico.

1. Applicazioni di deposizione di film sottili

- Rivestimento PVD: L'elevato punto di fusione e la purezza del molibdeno garantiscono una deposizione affidabile del film, offrendo durezza e stabilità termica superiori.

- Sputtering con magnetron: La struttura uniforme del target facilita il controllo dello spessore degli strati di film sottile, migliorando le prestazioni dei dispositivi.

2. Applicazioni dei semiconduttori

- Circuiti integrati: I film sottili di Mo agiscono come barriere di diffusione e strati conduttivi, contribuendo a ridurre i tassi di difettosità nella produzione di microchip.

- Componenti elettronici: Le sue robuste proprietà di incollaggio aiutano a ottimizzare le prestazioni in applicazioni come transistor e diodi.

3. Applicazioni di rivestimento ottico

- Rivestimenti antiriflesso: L'utilizzo di Mo come strato di supporto migliora la chiarezza ottica, mantenendo la durata in ambienti difficili.

- Rivestimenti a specchio: L'eccellente riflettività del molibdeno e la sua stabilità alle alte temperature lo rendono ideale per i sistemi ottici di precisione.

Bersaglio di sputtering in molibdeno 99,95%, diam. 4 pollici Confezione

Il target di sputtering al molibdeno 99,95% con diametro di 4 pollici è accuratamente confezionato con una pellicola protettiva. 4 pollici è accuratamente confezionato con inserti di schiuma protettiva per evitare danni. Una busta di plastica sigillata sottovuoto viene poi utilizzata per proteggere il target dall'ossidazione. Sono incluse anche confezioni opzionali di gel di silice che assorbono l'umidità. Infine, il bersaglio viene inserito in una robusta cassa di cartone o di legno con etichette di avvertimento. È possibile personalizzare le dimensioni dell'imballaggio e il marchio per soddisfare le specifiche esigenze di spedizione e movimentazione.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, cassa di legno o personalizzato.

Target di sputtering al molibdeno 99,95%, Dia. 4 pollici FAQ

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale di Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 4 pollici?

A1: I target di sputtering in molibdeno con purezza del 99,95% sono noti per la loro eccellente conduttività, la struttura cristallina stabile, la tolleranza alle alte temperature e la bassa pressione di vapore. Hanno un'elevata densità (circa 10,2 g/cm³), un punto di fusione superiore a 2600°C e una forte resistenza alla corrosione. Queste caratteristiche assicurano una deposizione uniforme e costante del film, rendendoli adatti ad applicazioni complesse come dispositivi semiconduttori, transistor a film sottile e rivestimenti per display.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering al Mo?

A2: I target di sputtering al molibdeno sono generalmente prodotti attraverso la metallurgia delle polveri, partendo da polvere di molibdeno di elevata purezza che viene compattata e sinterizzata in condizioni strettamente controllate. Dopo la sinterizzazione, il materiale può essere laminato a caldo o forgiato per ottenere una struttura granulometrica uniforme e una maggiore densità. La lavorazione di precisione garantisce poi il diametro di 4 pollici e lo spessore specifico richiesti. Ulteriori trattamenti termici contribuiscono a ottimizzare le proprietà meccaniche e a migliorare le prestazioni di sputtering.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 4 pollici?

A3: I target di molibdeno con purezza del 99,95% sono generalmente conformi alla norma ASTM B386 o a specifiche industriali equivalenti per la composizione chimica e le proprietà meccaniche. Molti produttori mantengono sistemi di gestione della qualità certificati ISO 9001 che regolano la tracciabilità, i controlli di processo e le ispezioni finali. Inoltre, può essere richiesta la conformità alle norme RoHS e REACH, per garantire che le sostanze soggette a restrizioni siano ridotte al minimo. Test rigorosi, tra cui l'ispezione a ultrasuoni, la verifica dimensionale e l'analisi della composizione, confermano la conformità a questi standard.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo si utilizzano diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.