ST7952 Target di sputtering al molibdeno 99,9%, diametro. 2 pollici

Obiettivo di sputtering al molibdeno 99,9%, diam. 2 pollici Descrizione

Il nostro target di sputtering al molibdeno si distingue per l'eccezionale purezza del 99,9% (Mo), precisamente ingegnerizzato in un disco di 2 pollici di diametro. Il molibdeno è apprezzato per l'elevato punto di fusione, la robusta resistenza meccanica e l'eccellente resistenza alla corrosione, che lo rendono una scelta versatile nelle applicazioni di deposizione di film sottili. Queste proprietà consentono prestazioni affidabili in settori quali la produzione di semiconduttori, di celle solari e di rivestimenti avanzati per componenti aerospaziali.

Prodotto secondo rigorosi standard di qualità, questo target è sottoposto a un'ispezione rigorosa per garantire una struttura uniforme e impurità minime. L'alta densità e il basso contenuto di gas favoriscono una produzione efficiente di strati uniformi e stabili, riducendo la probabilità di difetti. Scegliete il nostro target di sputtering al molibdeno per ottenere una deposizione costante del film, una produttività ottimizzata e la sicurezza che deriva dal lavorare con un materiale affidabile e di alta qualità.

Target di sputtering al molibdeno 99,9%, Dia. 2 pollici Applicazioni

Il target sputtering di molibdeno 99,9% Dia. 2 pollici è ampiamente utilizzato in vari settori industriali per la creazione di film sottili e rivestimenti. Grazie all'elevato punto di fusione, all'eccellente stabilità termica e alla notevole conducibilità elettrica, il molibdeno assicura una deposizione coerente e uniforme di film sottili. La sua superiore resistenza alla corrosione e la sua forza meccanica supportano le prestazioni a lungo termine, rendendolo un materiale chiave per applicazioni avanzate in elettronica, ottica e altro.

1. Applicazioni di deposizione di film sottili

- Rivestimento PVD: L'alta conduttività e la stabilità del Mo consentono di ottenere rivestimenti uniformi e duraturi per componenti in ambito aerospaziale e industriale.

- Sputtering con magnetron: La robustezza termica e meccanica del Mo garantisce una contaminazione minima e un migliore controllo della deposizione.

- Film resistenti all'usura: La forte durezza del Mo offre una maggiore protezione per le parti che operano in ambienti difficili.

2. Applicazioni dei semiconduttori

- Circuiti integrati: La stabilità del Mo alle alte temperature e le forti proprietà di adesione facilitano la formazione di film ultrasottili sui wafer di silicio.

- Elettrodi di gate: La bassa resistività e l'eccellente integrità strutturale consentono un controllo preciso dei segnali elettronici.

- Strati di schermatura: La resistenza alla corrosione del Mo protegge le caratteristiche sensibili nella produzione avanzata di semiconduttori.

3. Applicazioni di rivestimento ottico

- Rivestimenti antiriflesso: Le caratteristiche uniformi di sputtering del Mo aiutano a ottenere un controllo preciso dello spessore per una migliore trasmissione.

- Rivestimenti a specchio: La maggiore riflettività e durata supportano sistemi ottici ad alte prestazioni.

- Beam Splitters: Le proprietà ottiche stabili del Mo garantiscono una gestione affidabile del percorso della luce nei dispositivi ottici sofisticati.

Target di sputtering al molibdeno 99,9%, diam. 2 pollici Confezione

Il target sputtering al molibdeno 99,9%, diametro 2 pollici, è confezionato in schiuma. 2 pollici, è confezionato con schiuma o pluriball per ridurre al minimo l'impatto. È sigillato sottovuoto in una pellicola resistente all'umidità per limitare l'ossidazione, integrata da pacchetti anticorrosione. Ogni etichetta include le specifiche del prodotto e le linee guida per la manipolazione. Sono disponibili soluzioni di confezionamento personalizzate, come inserti specializzati o private labeling, per soddisfare requisiti unici. In questo modo si garantisce l'integrità dell'obiettivo e una maggiore durata di conservazione.

Confezionamento: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Target di sputtering al molibdeno 99,9%, Dia. 2 pollici Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del target di sputtering al molibdeno 99,9%, Dia. 2 pollici?

A1: Questo target di sputtering in molibdeno, con una purezza del 99,9%, presenta un elevato punto di fusione (2623°C), un'eccellente conducibilità termica ed elettrica e una forte resistenza alla corrosione. Ha una microstruttura a grana fine che favorisce la deposizione uniforme di film sottili. La densità si avvicina tipicamente a 10,22 g/cm³, garantendo una bassa porosità. L'elevata purezza riduce le impurità che possono degradare la qualità del film, rendendolo ideale per le applicazioni dei semiconduttori, dei display e del solare.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo target di sputtering al Mo?

A2: In genere, questi target sono prodotti con metodi di metallurgia delle polveri o di fusione ad arco sotto vuoto. La metallurgia delle polveri prevede la macinazione di polvere di molibdeno di elevata purezza, la pressatura nella forma desiderata e la sinterizzazione ad alta temperatura per ottenere la densità richiesta. La fusione ad arco può produrre lingotti di elevata purezza che vengono poi laminati, forgiati o lavorati nelle forme finali. Entrambi i processi si basano su riscaldamento e raffreddamento controllati per ridurre al minimo le dimensioni dei grani e garantire proprietà uniformi del materiale.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al Molybdenum Sputtering Target 99,9%, Dia. 2 pollici?

A3: Questi target di sputtering al molibdeno sono generalmente conformi alle specifiche ASTM B386 per lastre, fogli e lamine di molibdeno. I produttori sono spesso in possesso di certificazioni ISO 9001 per garantire una produzione e una gestione della qualità costanti. I test analitici, come GD-MS o ICP, sono condotti per verificare livelli di purezza del 99,9% o superiori. Possono essere fornite anche la tracciabilità dei materiali e la conformità alle normative RoHS, a dimostrazione dell'adesione ai severi requisiti internazionali in materia di sicurezza e responsabilità ambientale.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, garantendo la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo vengono utilizzati diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.