ST7951 Target di sputtering al molibdeno 99,95%, diametro. 2 pollici

Obiettivo di sputtering al molibdeno 99,95%, diam. 2 pollici Descrizione

Il nostro target di sputtering al molibdeno presenta un'elevata purezza del 99,95% (Mo) e un diametro preciso di 2 pollici, che lo rende particolarmente adatto alla deposizione di film sottili e ad altre applicazioni di rivestimento avanzate. Grazie all'elevato punto di fusione del molibdeno e all'eccezionale conduttività termica, questo target resiste a temperature estreme mantenendo prestazioni affidabili. La sua intrinseca resistenza alla corrosione garantisce inoltre la stabilità in ambienti difficili, contribuendo a prolungare la vita operativa e a mantenere costante la qualità del film.

I rigorosi standard di qualità regolano ogni fase del processo di produzione, dall'approvvigionamento delle materie prime all'ispezione finale. Ogni target è sottoposto a test rigorosi per garantire una microstruttura uniforme, una densità ottimale e impurità minime. Di conseguenza, i ricercatori e gli operatori industriali possono contare sui nostri target di sputtering al molibdeno per ottenere risultati riproducibili e una maggiore efficienza di deposizione nei processi PVD all'avanguardia.

Target di sputtering al molibdeno 99,95%, diam. 2 pollici Applicazioni

Il target di sputtering al molibdeno 99,95%, Dia. 2 pollici è ampiamente riconosciuto per la sua eccellente conducibilità termica, la superiore resistenza meccanica e l'elevato punto di fusione. Questi attributi consentono prestazioni affidabili in ambienti difficili, rendendolo ideale per varie applicazioni avanzate. Dai rivestimenti di film sottili ai componenti di semiconduttori e agli strati ottici, le proprietà uniche del molibdeno favoriscono una qualità costante e una migliore funzionalità dei dispositivi.

1. Applicazioni di deposizione di film sottili

- Rivestimento PVD: L'elevato punto di fusione del molibdeno garantisce una deposizione stabile e un'adesione eccellente per strati protettivi e finiture decorative.

- Sputtering con magnetron: La sua robusta stabilità meccanica consente di ottenere film precisi e uniformi in ambienti sotto vuoto con una contaminazione ridotta.

2. Applicazioni dei semiconduttori

- Circuiti integrati: La conduttività e la resistenza alle temperature del molibdeno consentono interconnessioni affidabili e una maggiore longevità dei dispositivi.

- Componenti elettronici: La sua resistenza alla corrosione e il contenuto minimo di impurità garantiscono parti elettroniche stabili e ad alte prestazioni.

3. Applicazioni di rivestimento ottico

- Rivestimenti antiriflesso: Le forti caratteristiche di adesione del molibdeno e la bassa perdita di dispersione migliorano la chiarezza ottica e la durata.

- Rivestimenti a specchio: I suoi strati uniformi e riflettenti migliorano l'efficienza energetica e le prestazioni dei sistemi ottici ad alta temperatura.

Target di sputtering al molibdeno 99,95%, diam. 2 pollici Confezione

Ogni target di sputtering al molibdeno è accuratamente sigillato in un involucro sottovuoto per proteggere dall'umidità e dall'ossidazione. Uno strato di schiuma che assorbe gli urti o di pluriball offre un'ulteriore protezione durante il trasporto. Le misure antiossidazione, come il lavaggio con gas inerte, contribuiscono a preservare la purezza della superficie. Per ordini più consistenti o per esigenze particolari, l'imballaggio può essere personalizzato con un'imbottitura extra o con buste a doppia tenuta, per garantire che il vostro obiettivo arrivi integro e pronto per applicazioni ad alte prestazioni.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Target di sputtering al molibdeno 99,95%, Dia. 2 pollici Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del target di sputtering al molibdeno 99,95%, Dia. 2 pollici?

A1: Questo target di molibdeno di elevata purezza presenta un'eccellente conduttività termica, una bassa espansione termica e un elevato punto di fusione (circa 2.623°C). La sua densità di circa 10,2 g/cm³ e la sua durezza garantiscono un'eccezionale resistenza all'usura, mentre la purezza del 99,95% riduce al minimo la contaminazione durante lo sputtering. Inoltre, la microstruttura a grana fine offre una stabilità meccanica superiore. Queste proprietà lo rendono particolarmente adatto alle applicazioni a film sottile che richiedono rivestimenti mo precisi e affidabili.

D2: Come può essere lavorato o fabbricato questo bersaglio per sputtering di Mo?

A2: La fabbricazione inizia con la fusione sotto vuoto o la metallurgia delle polveri per raffinare il materiale al 99,95% di purezza. Il molibdeno fuso o compattato viene sottoposto a laminazione a caldo, forgiatura o sinterizzazione per ottenere la forma desiderata. Ulteriori trattamenti termici, come la distensione a temperature elevate, contribuiscono a perfezionare la struttura dei grani. Successivamente, viene eseguita una lavorazione precisa (rettifica o lucidatura) per garantire l'accuratezza dimensionale e una qualità superficiale uniforme.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al Molybdenum Sputtering Target 99.95%, Dia. 2 pollici?

A3: Questi target sono generalmente conformi alle norme ASTM B386 e ASTM B387 per le specifiche dei materiali di molibdeno. La purezza viene verificata mediante ICP-MS (spettrometria di massa al plasma ad accoppiamento induttivo) o GD-MS (spettrometria di massa a scarica di bagliore), garantendo livelli di purezza del 99,95%. Le tolleranze dimensionali sono controllate con precisi strumenti metrologici e i fornitori spesso mantengono la certificazione ISO 9001 per garantire processi produttivi coerenti, documentazione rigorosa e tracciabilità. Questo assicura prestazioni affidabili e un contenuto minimo di impurità.

Informazioni correlate

1. Materie prime - Materiali Mo

Il Mo è un materiale prezioso utilizzato in varie applicazioni di sputtering. Viene estratto e purificato attraverso operazioni di lavorazione avanzate. Stanford Advanced Materials si rifornisce di materiali di alta qualità da fornitori affidabili, assicurando la qualità e la coerenza dei nostri target di sputtering.

2. Produzione di target sputtering

Per produrre i target di sputtering Mo si utilizzano diversi metodi, tra cui la metallurgia delle polveri. Ogni metodo produce caratteristiche diverse del target, come la densità, la struttura dei grani e le proprietà superficiali. Il metodo di produzione viene scelto in base ai requisiti dell'applicazione prevista e alle specifiche di prestazione.