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ST11478 Target di sputtering al carbonato di litio Target Li2CO3

Catalogo no. ST11478
Composizione Li2CO3
Forma Rotondo, rettangolare, personalizzato
Forma Obiettivo
La purezza ≥99%

Il target di carbonato di litio per sputtering Li2CO3 è prodotto utilizzando carbonato di litio di elevata purezza con densità controllata e difetti minimi per ottenere prestazioni di sputtering costanti. Stanford Advanced Materials (SAM) impiega rigorosi metodi di caratterizzazione interni, come l'analisi XRD e SEM, per monitorare l'uniformità microstrutturale e la qualità della superficie. Questo accurato processo di ispezione riduce al minimo le impurità e garantisce la coerenza del processo per una precisa deposizione di film sottili in applicazioni elettroniche e ceramiche.

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FAQ

In che modo la purezza del Li2CO3 influisce sul processo di sputtering?

Il Li2CO3 di elevata purezza riduce al minimo i contaminanti durante la deposizione, favorendo l'ottenimento di uno spessore uniforme del film e di proprietà elettriche controllate. Ciò è essenziale per le applicazioni in cui la costanza delle prestazioni del film è fondamentale.

Quali parametri operativi devono essere monitorati quando si utilizza un target di sputtering Li2CO3?

È importante gestire la potenza di sputtering, la pressione della camera e la temperatura del substrato. Questi parametri influenzano l'adesione del film, l'uniformità e l'efficienza complessiva della deposizione. La regolazione fine di queste condizioni può migliorare la qualità del film.

L'obiettivo può essere utilizzato per depositare film sottili nella produzione di semiconduttori?

Sì, l'obiettivo è appropriato per la deposizione di film sottili nelle applicazioni dei semiconduttori. La sua composizione e struttura controllata aiutano a produrre film con proprietà elettriche e meccaniche riproducibili. Per regolazioni specifiche del processo, si consiglia una consulenza tecnica.

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