ST11467 Bersaglio di titanio e silicio, bersaglio TiSi

Descrizione del target di titanio e silicio, target TiSi

Il target di titanio-silicio, target TiSi, è un componente per sputtering prodotto con una precisa composizione di TiSi, destinato ai processi di deposizione nella fabbricazione di semiconduttori e microelettronica. Il suo design enfatizza la stechiometria controllata e la minimizzazione della generazione di particolato durante lo sputtering. Il target supporta una deposizione efficiente del film, garantendo la riproducibilità del processo e le proprietà uniformi del rivestimento, essenziali per la produzione di dispositivi avanzati.

Target di titanio e silicio, target TiSi Applicazioni

1.Elettronica
- Utilizzato come sorgente di sputtering nella produzione di semiconduttori per formare strati barriera o conduttivi, risolvendo i problemi di uniformità del film grazie alla composizione controllata di TiSi.
- Applicato come target di deposizione nella produzione di schermi piatti per ottenere uno spessore preciso del film, garantendo proprietà ottiche ed elettriche costanti.

2.Industriale
- Serve come materiale di rivestimento nella produzione di film sottili per sensori di precisione, superando i problemi di adesione grazie alla microstruttura uniforme del target.
- Utilizzato come fonte di strati protettivi nei sistemi di imballaggio elettronico per attenuare l'usura e la corrosione attraverso processi di deposizione controllata.

Target di titanio e silicio, imballaggio del target TiSi

Il target di silicio al titanio è confezionato in un contenitore protettivo antistatico con inserti in schiuma personalizzata per attutire gli urti meccanici e ridurre al minimo la contaminazione da particolato. È sigillato all'interno di una scatola rigida e resistente all'umidità per mantenere la pulizia durante il trasporto e lo stoccaggio. I protocolli di confezionamento prevedono lo stoccaggio in un ambiente pulito e stabile dal punto di vista della temperatura. Su richiesta sono disponibili etichette personalizzate e configurazioni di confezionamento alternative.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering come il target titanio-silicio svolgono un ruolo cruciale nella deposizione di materiali in cui è necessario un controllo preciso dello spessore e della composizione del film. Questi target sono progettati per soddisfare le esigenze delle applicazioni di semiconduttori e microelettronica ad alte prestazioni, in cui variazioni anche minime delle proprietà del film possono influire significativamente sulle prestazioni del dispositivo.

I progressi nella fabbricazione dei target hanno migliorato la riproducibilità e ridotto la densità dei difetti nei film depositati. La comprensione delle relazioni tra la composizione del target, i parametri di sputtering e le proprietà del film è essenziale per ottimizzare i processi di produzione e garantire prestazioni coerenti dei prodotti in varie applicazioni industriali e di ricerca.