ST11460 Bersaglio planare cobalto-cromo-ferro-nichel, bersaglio CoCrFeNi

Descrizione del target planare cobalto-cromo-ferro-nichel, target CoCrFeNi

Il target planare cobalto-cromo-ferro-nichel, target CoCrFeNi, è un target di sputtering composto da una lega Co-Cr-Fe-Ni. Prodotto con processi metallurgici controllati, mantiene una composizione uniforme e un profilo di erosione durante lo sputtering. Il design planare favorisce la deposizione stabile di film nella fabbricazione di dispositivi a semiconduttore e nei rivestimenti funzionali. L'inerzia chimica della lega contribuisce alla costanza delle caratteristiche del film sottile in varie applicazioni industriali.

Target planari di cobalto, cromo, ferro e nichel, applicazioni del target CoCrFeNi

Produzione di elettronica e semiconduttori
- Utilizzato come target di sputtering nella produzione di semiconduttori per ottenere una deposizione uniforme di film sottili sfruttando la composizione omogenea della lega. Questa applicazione riduce al minimo le variazioni microstrutturali e migliora le prestazioni dei dispositivi.
- Impiegato nella produzione di strati conduttivi nei circuiti microelettronici per garantire una crescita stabile del film grazie alle sue caratteristiche di erosione controllata.

Rivestimenti industriali
- Applicato come materiale di partenza per il deposito di rivestimenti protettivi su componenti industriali, per migliorare la resistenza alla corrosione utilizzando le sue proprietà chimiche costanti. Questo approccio migliora la durata della superficie sottoposta a stress operativo.

Bersaglio planare cobalto-cromo-ferro-nichel, confezione del bersaglio CoCrFeNi

Il target è confezionato in un contenitore protettivo antistatico rivestito di schiuma per assorbire gli urti durante il trasporto. Una barriera sigillata riduce al minimo l'esposizione ai contaminanti e l'imballaggio è progettato per essere conservato in un ambiente controllato a temperature stabili per preservare l'integrità del materiale. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate per soddisfare requisiti specifici di manipolazione e anticontaminazione.

Informazioni aggiuntive

I bersagli sputtering realizzati in leghe multicomponente, come il CoCrFeNi, sono parte integrante dei processi di deposizione di film sottili utilizzati in vari settori industriali. Le loro prestazioni si basano sulla coerenza della composizione della lega e sulla precisa configurazione geometrica. Per verificare l'uniformità strutturale e compositiva si utilizzano tecniche di caratterizzazione avanzate, tra cui la microscopia elettronica a scansione (SEM).

La comprensione dell'interazione tra la composizione del target e i parametri di sputtering può aiutare a ottimizzare la crescita del film. Ricercatori e ingegneri spesso sfruttano queste conoscenze per personalizzare i processi di deposizione, affrontando sfide come l'uniformità del film e l'adesione e migliorando le proprietà funzionali dei rivestimenti risultanti.