ST11453 Bersaglio in lega di alluminio e bario Bersaglio BaAl

Target in lega di alluminio e bario Descrizione del target BaAl

Il target in lega di bario e alluminio BaAl è stato formulato per applicazioni di sputtering magnetronico in cui è fondamentale la deposizione uniforme di film. La composizione coerente della lega, verificata mediante un'analisi rigorosa della superficie, supporta tassi di sputtering stabili e caratteristiche prevedibili del film. La sua forma fisica e la chimica definita facilitano l'integrazione con le apparecchiature standard per la lavorazione dei semiconduttori, offrendo miglioramenti pratici delle prestazioni negli ambienti di rivestimento e microfabbricazione.

Target in lega di alluminio e bario Applicazioni del target BaAl

1.Elettronica
- Utilizzato come sorgente di sputtering nella produzione di semiconduttori per ottenere una deposizione uniforme di film sottili sfruttando la composizione coerente della lega.
- Applicato come target di rivestimento nella produzione di schermi piatti per mantenere costanti le proprietà elettriche e minima la contaminazione da particolato.

2.Rivestimenti industriali
- Impiegato come target nei sistemi di rivestimento ottico per facilitare il controllo della velocità di deposizione e lo spessore uniforme dello strato, migliorando le prestazioni ottiche.
- Utilizzato nei rivestimenti decorativi o funzionali, dove la composizione stabile della lega riduce le fluttuazioni della qualità del film e la riproducibilità del processo.

Target in lega di alluminio e bario Confezione del target BaAl

Il target è confezionato in modo sicuro in involucri antistatici e resistenti all'umidità, racchiusi in contenitori imbottiti ed ermeticamente sigillati. Queste misure di imballaggio proteggono dagli impatti meccanici e dalla contaminazione durante il trasporto e lo stoccaggio. Lo stoccaggio consigliato prevede un ambiente controllato con temperatura e umidità stabili per mantenere l'integrità del materiale. Su richiesta sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui l'etichettatura e i supporti a scomparti.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering come questo target in lega BaAl svolgono un ruolo fondamentale nelle tecnologie dei film sottili. Il controllo preciso della composizione e della microstruttura della lega è fondamentale sia per la ricerca che per i processi di deposizione su scala industriale. La comprensione dell'interrelazione tra le proprietà del materiale e il comportamento di deposizione aiuta gli ingegneri a ottimizzare le caratteristiche del film per una varietà di applicazioni industriali.

I progressi nella scienza dei materiali continuano a perfezionare le prestazioni dei target di sputtering. La caratterizzazione dettagliata delle superfici delle leghe e la costanza nella produzione di lotti consentono un controllo più preciso dei parametri di deposizione, essenziale per le applicazioni nella produzione di semiconduttori, dispositivi ottici e altre industrie ad alta tecnologia.