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ST11221 Target planare al solfuro di zinco, target ZnS

Catalogo no. ST11221
Composizione ZnS
La purezza ≥99,99%, o personalizzato
Forma Obiettivo
Forma Rettangolare
Dimensioni Personalizzato

Il target planare di solfuro di zinco, ZnS Target, è progettato per processi di deposizione sputtering di precisione. Il target è prodotto con una geometria planare controllata per supportare la formazione uniforme di film sottili. Stanford Advanced Materials (SAM) impiega ispezioni dettagliate al SEM e sinterizzazione in atmosfera controllata per confermare l'omogeneità del materiale e il controllo delle impurità. Questi protocolli tecnici assicurano che il target soddisfi i severi requisiti per la deposizione uniforme di film nelle applicazioni industriali.

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FAQ

Qual è il significato dell'utilizzo di una geometria planare nei target di sputtering ZnS?

La geometria planare assicura uno spessore uniforme del film durante lo sputtering, riducendo la variazione degli strati depositati. Questa caratteristica è essenziale per i processi che richiedono proprietà ottiche ed elettriche costanti. Contattateci per ulteriori dettagli tecnici.

Come influisce il processo di sinterizzazione sulla qualità del target ZnS?

La sinterizzazione controllata promuove una microstruttura omogenea e riduce al minimo le impurità. Questo processo migliora la densità del materiale e le prestazioni complessive durante la deposizione per sputtering. Contattateci per ulteriori informazioni sul processo di produzione.

Le dimensioni del target ZnS sono personalizzabili per specifici sistemi di sputtering?

Sì, le dimensioni sono personalizzabili per soddisfare i requisiti delle apparecchiature, garantendo la compatibilità con diversi sistemi di sputtering. Questa flessibilità consente l'integrazione in diverse configurazioni di deposizione, mantenendo l'uniformità del film. Contattateci per le opzioni di personalizzazione.

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