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ST11219 Bersaglio planare di zinco, bersaglio di Zn

Catalogo no. ST11219
Composizione Zn
La purezza ≥99,99%, o personalizzato
Forma Obiettivo
Forma Rettangolare
Dimensioni Personalizzato

Il target planare di zinco, Zn Target, è prodotto come target di sputtering per i processi di deposizione fisica da vapore. È prodotto da Stanford Advanced Materials (SAM), che utilizza tecniche sistematiche di caratterizzazione dei materiali, come l'analisi spettroscopica e la profilazione della superficie, per monitorare l'uniformità della composizione. SAM segue rigorosi protocolli di qualità in un ambiente controllato per ridurre al minimo le impurità e le variazioni dimensionali, garantendo la coerenza dei processi di deposizione e delle prestazioni.

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FAQ

In che modo la purezza del target influisce sui risultati della deposizione sputtering?

L'elevata purezza riduce al minimo la contaminazione sulla superficie di deposizione e garantisce una crescita stabile del film. Il mantenimento di livelli di purezza controllati è essenziale per ottenere tassi di deposizione prevedibili e uniformità del film. Ciò è fondamentale quando è richiesta una stechiometria precisa nella produzione di microelettronica.

Che impatto hanno le dimensioni personalizzate sulle prestazioni dello sputtering?

Le dimensioni personalizzate consentono una compatibilità su misura con sistemi di sputtering specifici, ottimizzando l'allineamento del target e l'uniformità di deposizione. La regolazione delle dimensioni attenua gli effetti dei bordi e migliora il controllo del processo, importante per ottenere uno spessore uniforme dello strato sui substrati.

Quali sono le condizioni ambientali raccomandate durante la lavorazione del target?

È consigliabile lavorare il target in un ambiente pulito, a temperatura controllata e con bassa umidità. Questo riduce al minimo l'ossidazione e mantiene l'integrità della superficie. Per ulteriori indicazioni operative, contattateci.

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