ST11218 Bersaglio rotante al vanadio, bersaglio V

Descrizione del target rotante al vanadio, target V

Il bersaglio rotante al vanadio, V Target, è un bersaglio per sputtering prodotto con vanadio di elevata purezza (peso atomico 50,94 g/mol) che impiega un meccanismo rotante per ottenere un'erosione uniforme durante la deposizione. Il design supporta un controllo preciso dello spessore del film e riduce l'usura localizzata. Le sue dimensioni personalizzabili garantiscono l'integrazione con i sistemi di sputtering standard, offrendo una soluzione efficace per la lavorazione di film sottili.

Target rotante al vanadio, caratteristiche del target V

*Le informazioni sul prodotto di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Bersaglio rotante di vanadio, applicazioni del bersaglio V

Applicazioni industriali di sputtering
- Utilizzato come target di sputtering nei sistemi di deposizione di film sottili per ottenere una copertura uniforme del film sfruttando il suo design rotante, che distribuisce uniformemente l'erosione e migliora la stabilità del processo.
- Applicato nelle apparecchiature per la lavorazione dei semiconduttori per ridurre al minimo i danni da sputtering localizzati e migliorare l'uniformità complessiva della deposizione.

Ricerca e sviluppo
- Impiegato come campione di prova negli esperimenti di sputtering per studiare le dinamiche di erosione del materiale, con le sue dimensioni personalizzabili che facilitano la sperimentazione su misura.
- Utilizzato come materiale di riferimento negli studi di ottimizzazione dei processi grazie alle sue caratteristiche di erosione e deposizione prevedibili.

Target rotante al vanadio, imballaggio del target V

Il bersaglio rotante di vanadio, V Target, è confezionato in un contenitore antistatico sigillato con imbottitura in schiuma incorporata per ridurre gli shock meccanici e prevenire la contaminazione della superficie. La confezione è progettata per lo stoccaggio controllato in un ambiente asciutto e a temperatura regolata per ridurre al minimo i rischi di ossidazione. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui riempimento con gas inerte ed etichettatura speciale, per soddisfare requisiti di manipolazione specifici.

Informazioni aggiuntive

Il vanadio, con il suo elevato punto di fusione e le sue spiccate proprietà meccaniche, è ampiamente utilizzato nelle applicazioni che richiedono processi di sputtering stabili. La sua resistenza alla degradazione termica e la compatibilità con gli ambienti ad alto vuoto lo rendono un materiale preferito nelle tecniche avanzate di deposizione di film sottili.

Oltre ai target di sputtering, il vanadio è anche incorporato nelle formulazioni di leghe e nei componenti strutturali, dove la durata e la microstruttura controllata sono essenziali. Ricercatori e ingegneri continuano a esplorare la sua utilità in vari ambienti ad alta temperatura e corrosivi.