ST11217 Bersaglio planare in siliciuro di titanio, bersaglio TiSi2

Target planare in siliciuro di titanio, target TiSi2 Descrizione

Il target planare in siliciuro di titanio, target TiSi2, è stato progettato per applicazioni di sputtering nella deposizione di film sottili. La sua configurazione planare favorisce un'erosione uniforme del materiale e uno spessore costante del film, rendendolo adatto all'integrazione con le apparecchiature standard per la lavorazione dei semiconduttori. La composizione controllata del target riduce la generazione di particolato e migliora le proprietà di adesione dei film depositati, supportando così processi di deposizione di precisione del materiale.

Target planare in siliciuro di titanio, TiSi2 Caratteristiche del target

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo un riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare in siliciuro di titanio, target TiSi2 Applicazioni

1.Elettronica
- Utilizzato come sorgente di sputtering nei dispositivi a semiconduttore per ottenere una deposizione uniforme di film sottile sfruttando la struttura planare del target.
- Applicato come strato di contatto nei circuiti integrati per ottenere caratteristiche elettriche costanti riducendo al minimo le variazioni microstrutturali.

2.Industriale
- Impiegato come materiale di rivestimento nella fabbricazione di sensori per mantenere uno spessore controllato del film attraverso un'erosione sputter uniforme.
- Utilizzato come fonte di deposizione nei processi di trattamento superficiale per garantire proprietà affidabili del film in condizioni di plasma variabili.

3.Optoelettronica
- Utilizzato come materiale elettrodico nei componenti dei display per fornire una conduttività costante del film sfruttando il profilo di erosione uniforme del target.

Target planare in siliciuro di titanio, imballaggio del target TiSi2

Il target planare di siliciuro di titanio, target TiSi2, è confezionato in buste antistatiche sigillate e posizionate all'interno di contenitori di schiuma rigida per salvaguardarlo da urti meccanici e contaminazione. L'imballaggio incorpora barriere contro l'umidità per prevenire l'ossidazione superficiale durante il trasporto e lo stoccaggio. Sono disponibili opzioni personalizzate, tra cui contenitori sigillati sottovuoto ed etichettati. Si consiglia di conservare in un ambiente pulito, asciutto e a temperatura controllata.

Informazioni aggiuntive

Il siliciuro di titanio è un composto intermetallico ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori grazie alla sua bassa resistività e alla compatibilità con i substrati di silicio. La sua integrazione nei target di sputtering si basa sulla capacità di formare film sottili uniformi e aderenti con composizione controllata, migliorando così le prestazioni di deposizione in vari processi di produzione di dispositivi.

Le tecniche avanzate di caratterizzazione superficiale, come la microscopia elettronica a scansione e la diffrazione di raggi X, sono fondamentali per valutare la microstruttura del materiale. Questi metodi analitici non solo convalidano la qualità del prodotto, ma contribuiscono anche a una più efficace ottimizzazione dei processi nelle applicazioni di deposizione di film sottili.