ST11216 Target planare in siliciuro di tantalio, target TaSi2

Target planare in siliciuro di tantalio, target TaSi2 Descrizione

Il target planare in siliciuro di tantalio, TaSi2, è fabbricato a partire da un composto TaSi2 mediante un processo di planarizzazione controllata. Il target è progettato per presentare una microstruttura uniforme con dimensioni personalizzabili che supportano la deposizione di film sottili riproducibili. Questa coerenza nella struttura e nella composizione dei grani gioca un ruolo fondamentale nell'ottenere uno spessore uniforme del film e un'elevata riproducibilità della deposizione nella lavorazione dei semiconduttori e in altre applicazioni di rivestimento avanzate.

Target planare in siliciuro di tantalio, TaSi2 Caratteristiche del target

Le informazioni sul prodotto sopra riportate si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specificheeffettive possono variare.

Target planare in siliciuro di tantalio, target TaSi2 Applicazioni

1.Elettronica e semiconduttori
- Utilizzato come sorgente di sputtering nei sistemi di deposizione di semiconduttori per ottenere strati uniformi di film sfruttando la sua microstruttura controllata. Questa applicazione riduce al minimo la contaminazione da particolato e migliora la consistenza dello strato.

2.Lavorazione industriale
- Applicato come target nei sistemi di rivestimento per migliorare la durata della superficie dei componenti industriali. La sua composizione personalizzata e la struttura dei grani planari favoriscono un trasferimento efficiente dell'energia durante lo sputtering, riducendo la variabilità del processo.

3.Ricerca e sviluppo
- Serve come campione in studi avanzati sui film sottili per analizzare il comportamento di deposizione. Le dimensioni personalizzabili consentono un'ottimizzazione precisa delle configurazioni sperimentali, facilitando la valutazione dettagliata delle prestazioni del materiale.

Target planare in siliciuro di tantalio, confezione del target TaSi2

Il target è confezionato in un contenitore protettivo antistatico con imbottitura in schiuma per evitare danni meccanici durante il trasporto. È sigillato in sacchetti con barriera antiumidità e fissato in una scatola esterna rigida per ridurre al minimo la contaminazione. Si consiglia di conservare il prodotto in un ambiente fresco e asciutto; su richiesta sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, come contenitori sigillati sottovuoto o a clima controllato.

Informazioni aggiuntive

Lo sviluppo di bersagli per sputtering come il bersaglio planare di siliciuro di tantalio, TaSi2, richiede una comprensione completa delle proprietà del materiale e delle tecniche di lavorazione. Il controllo di parametri quali la struttura e la composizione dei grani influenza direttamente le prestazioni di deposizione e l'uniformità del film nelle applicazioni industriali e di ricerca.

I principi della scienza dei materiali sono alla base della produzione e dell'utilizzo dei target TaSi2. Studi dettagliati sulle proprietà termiche ed elettriche, nonché sull'integrità microstrutturale, guidano i progressi nella deposizione di film sottili. Questa comprensione supporta il continuo miglioramento dei processi di fabbricazione dei target, garantendo la compatibilità con le applicazioni più esigenti nel campo dei semiconduttori e dei rivestimenti.