ST11215 Target planare in carburo di tantalio, target TaC

Target planare in carburo di tantalio, target TaC Descrizione

Il target planare in carburo di tantalio, TaC Target, comprende un composto di TaC di elevata purezza progettato per i processi di sputtering. Realizzato mediante sinterizzazione reattiva, il target sviluppa una microstruttura densa che riduce al minimo gli artefatti dei confini dei grani. Le sue dimensioni adattabili consentono una perfetta integrazione in vari sistemi di sputtering. L'inerzia chimica e la stabilità termica del TaC favoriscono una deposizione precisa del film, riducendo al minimo la contaminazione durante la lavorazione.

Target planare in carburo di tantalio, caratteristiche del target TaC

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo un riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare in carburo di tantalio, applicazioni del target TaC

Elettronica
- Utilizzato come sorgente di deposizione nella produzione di semiconduttori per ottenere rivestimenti conduttivi uniformi sfruttando una microstruttura controllata.
- Applicato come sorgente di sputtering nella lavorazione dei pannelli di visualizzazione per ottenere proprietà ottiche costanti grazie alla sua composizione chimica stabile.

Industriale
- Impiegato nei sistemi di rivestimento per migliorare la resistenza all'usura delle attrezzature sfruttando la sua elevata stabilità termica per una formazione accurata del film.

Target planare in carburo di tantalio, confezione del target TaC

Il target è confezionato in un contenitore sigillato rivestito con una barriera inerte per ridurre i rischi di contaminazione. Supporti antivibranti e sacchetti barriera contro l'umidità proteggono dalle sollecitazioni meccaniche e ambientali. Lo stoccaggio in un ambiente asciutto e a temperatura controllata è essenziale per mantenere l'integrità del materiale. Su richiesta, sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui sigilli antimanomissione ed etichette speciali.

Ulteriori informazioni

Il carburo di tantalio è spesso studiato per la sua combinazione unica di stabilità termica e inerzia chimica. I ricercatori si concentrano sul perfezionamento dei processi di sinterizzazione per controllare la microstruttura, che influenza direttamente le prestazioni nei sistemi di sputtering. I progressi nella lavorazione dei materiali hanno permesso di ottenere strutture di grani riproducibili che soddisfano le rigorose esigenze industriali.

Gli scienziati dei materiali esaminano anche le caratteristiche di deposizione dei target TaC per migliorare l'uniformità del film e la velocità di deposizione. Questi studi contribuiscono a migliorare il controllo del processo nelle applicazioni a film sottile, assicurando che i materiali funzionino in modo prevedibile in varie condizioni operative.