ST11214 Target planare in tantalio, target Ta

Descrizione del target planare di tantalio, target Ta

Il target planare di tantalio, Ta Target, è prodotto con tantalio di elevata purezza con una finitura superficiale planare accuratamente controllata e ottimizzata per lo sputtering. Le dimensioni personalizzate del prodotto assicurano la compatibilità con i sistemi di deposizione standard, mentre la sua microstruttura controllata riduce al minimo la contaminazione da particolato durante i processi di rivestimento, facilitando la formazione efficiente dello strato nella produzione di semiconduttori e in altre applicazioni industriali in cui la deposizione uniforme del film è fondamentale.

Target planare di tantalio, caratteristiche del target Ta

*Le informazioni sul prodotto di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare di tantalio, target Ta Applicazioni

1.Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nei sistemi di deposizione dei semiconduttori per ottenere strati uniformi di film sottile sfruttando la microstruttura controllata del materiale. Questo approccio riduce al minimo i difetti superficiali e migliora l'uniformità del rivestimento.

2.Rivestimenti industriali
- Applicato come target primario nei sistemi di deposizione fisica da vapore per la produzione di rivestimenti decorativi o funzionali durevoli. L'elevata purezza e la stabilità del punto di fusione facilitano la formazione di pellicole omogenee, fattore critico per le prestazioni in ambito industriale.

Target planare di tantalio, imballaggio del target Ta

Questo target planare di tantalio è confezionato in contenitori antistatici progettati su misura con imbottitura in schiuma per ridurre gli urti meccanici e i rischi di contaminazione. Ogni target è sigillato in un sacchetto di protezione dall'umidità con essiccanti per controllare l'umidità. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui inserti in schiuma a scomparti e scatole etichettate. Per una conservazione ottimale, conservare gli obiettivi in un ambiente a temperatura controllata e privo di polvere.

Informazioni aggiuntive

Il tantalio è un metallo refrattario noto per la sua resistenza alla corrosione e l'elevato punto di fusione. La comprensione della relazione tra il controllo della microstruttura e la purezza del materiale è essenziale per ottenere una crescita uniforme del film nei semiconduttori e nelle applicazioni industriali.

I progressi nelle tecniche di lavorazione dei materiali continuano a migliorare le prestazioni dei target di sputtering. Ricercatori e ingegneri si concentrano sull'ottimizzazione di parametri come la dimensione dei grani e la finitura superficiale per migliorare l'efficienza della deposizione e la qualità del film. Questi sforzi contribuiscono al più ampio campo delle applicazioni dei metalli non ferrosi, dove la precisione delle caratteristiche dei materiali è fondamentale.