ST11213 Target di sputtering in alluminato di stronzio, target SrAl2O4

Descrizione del target di sputtering in alluminato di stronzio, SrAl2O4

Il target di sputtering in alluminato di stronzio, SrAl2O4, è una composizione ceramica utilizzata nei processi di deposizione fisica da vapore. Composto da SrAl2O4, il target è progettato per generare film di ossido uniformi durante lo sputtering. Il suo design supporta un'erosione controllata e una generazione minima di particolato. La precisa formulazione chimica del target e le opzioni dimensionali personalizzate garantiscono la compatibilità con i sistemi di sputtering standard, migliorando la coerenza della deposizione negli ambienti di produzione.

Target di sputtering in alluminato di stronzio, SrAl2O4 Caratteristiche del target

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo un riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target di sputtering in alluminato di stronzio, SrAl2O4 Applicazioni del target

Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nei sistemi di deposizione di film sottili per ottenere rivestimenti di ossido uniformi sfruttando la sua precisa composizione chimica.
- Applicato nella produzione di semiconduttori per produrre strati dielettrici controllati, migliorando le prestazioni dei dispositivi grazie all'erosione stabile del target.

Industriale
- È stata utilizzata come fonte di rivestimento per strati di ossido decorativi e protettivi nella finitura dei metalli, affrontando le sfide legate al raggiungimento di tassi di deposizione costanti per migliorare la durata della superficie.
- Viene spesso utilizzato per la produzione di dispositivi ottici, sfruttando la microstruttura controllata per realizzare strati di luminescenza uniformi.

Target di sputtering in alluminato di stronzio, imballaggio del target SrAl2O4

Il target è confezionato in contenitori rigidi antistatici, rivestiti di schiuma per prevenire le sollecitazioni meccaniche e la contaminazione. L'imballaggio include barriere contro l'umidità ed è sigillato con gas inerte per mantenere l'integrità del materiale. Si consiglia di conservare il target in un ambiente fresco e asciutto per evitarne la degradazione. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, come la sigillatura sottovuoto e la compartimentazione, per soddisfare requisiti di manipolazione specifici.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering come SrAl2O4 svolgono un ruolo fondamentale nella deposizione di film sottili in diverse applicazioni industriali. Le prestazioni di questi target possono influenzare in modo significativo l'uniformità del film e le proprietà elettriche in dispositivi che vanno dai semiconduttori ai rivestimenti ottici.

I progressi nella lavorazione dei materiali ceramici hanno consentito un controllo più preciso della composizione e della microstruttura, che influisce direttamente sulle prestazioni dello sputtering. La comprensione di questi principi scientifici è essenziale per ottimizzare i processi di produzione sia nella ricerca che nell'industria.