ST11212 Bersaglio rotante di stagno, bersaglio Sn

Descrizione del bersaglio rotante di stagno, bersaglio Sn

Il bersaglio rotante di stagno, bersaglio Sn, è prodotto con stagno di elevata purezza lavorato con tecniche metallurgiche controllate per ottenere una composizione uniforme e caratteristiche dimensionali personalizzate. Le proprietà intrinseche del materiale facilitano la deposizione stabile del film, riducendo al minimo la contaminazione da particolato. La valutazione dettagliata della qualità, che include la verifica della superficie e l'analisi metallografica, supporta la coerenza nelle applicazioni di sputtering. Le sue dimensioni personalizzate garantiscono la compatibilità con i sistemi di sputtering standard in ambito industriale.

Target rotante di stagno, caratteristiche del target Sn

Le informazioni sul prodotto sopra riportate si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Bersaglio rotante di stagno, bersaglio Sn Applicazioni

1.Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nella produzione di semiconduttori per ottenere una deposizione uniforme di film di stagno sfruttando la sua microstruttura controllata.

2.Rivestimenti industriali
- Applicato come materiale di rivestimento nelle finiture decorative per l'elettronica di consumo per garantire uno spessore costante del film attraverso un controllo dimensionale personalizzato.

3.Componenti automobilistici
- Serve come bersaglio nei sistemi di sputtering per depositare sottili strati protettivi di stagno sui componenti, attenuando la corrosione grazie alla sua composizione raffinata.

Target rotante di stagno, imballaggio del target Sn

Il bersaglio rotante di stagno, bersaglio Sn, è confezionato all'interno di vettori protettivi con sigillatura anticontaminazione e avvolgimento in gas inerte per prevenire l'ossidazione. Il prodotto è conservato in imballaggi resistenti all'umidità e a temperatura controllata che riducono al minimo i danni meccanici. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzabili, che includono informazioni chiare sul lotto e sui pericoli, per soddisfare i requisiti specifici di spedizione e movimentazione.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering allo stagno svolgono un ruolo cruciale nei processi di deposizione di film, dove la purezza e l'uniformità del materiale influenzano direttamente le prestazioni del rivestimento. Il processo di produzione prevede in genere tecniche metallurgiche avanzate e rigorose valutazioni della qualità per ridurre al minimo le impurità e garantire l'omogeneità.

La comprensione del comportamento dello stagno in condizioni di sputtering è essenziale per ottimizzare i parametri di deposizione. La ricerca industriale continua a perfezionare questi processi, migliorando le prestazioni delle applicazioni a film sottile in vari settori industriali.