ST11211 Bersaglio planare di stagno, bersaglio Sn

Descrizione del target planare di stagno, target Sn

Il target planare di stagno, target Sn, è un target di sputtering realizzato in stagno puro (Sn) e progettato per la deposizione uniforme di film sottili. Le sue dimensioni personalizzabili consentono l'integrazione con vari sistemi di sputtering, garantendo l'adattabilità a diversi processi di rivestimento. La forma planare riduce al minimo gli effetti dei bordi e la generazione di particolato durante la deposizione. Questo design tecnico favorisce la costanza delle prestazioni del film, rendendolo adatto ad applicazioni nella lavorazione dei semiconduttori e nelle tecnologie di rivestimento superficiale.

Target planare di stagno, caratteristiche del target Sn

Le informazioni sul prodotto sopra riportate si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare di stagno, applicazioni del target Sn

Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nelle camere di deposizione dei semiconduttori per ottenere un rivestimento uniforme di film sottili sfruttando la sua finitura superficiale planare.
- Applicato come componente nei sistemi di produzione di display per garantire la formazione di strati conduttivi uniformi grazie alla purezza controllata del materiale.

Industriale
- Serve come materiale di rivestimento nella fabbricazione di superfici riflettenti, fornendo uno strato di stagno omogeneo che riduce al minimo i difetti.
- Viene spesso utilizzato nella produzione di sensori a film sottile per migliorare la coerenza del segnale attraverso un controllo preciso dello spessore del film.

Settore automobilistico
- Utilizzato nella produzione di unità di controllo elettroniche per ottenere uno strato di stagno stabile che garantisca l'affidabilità dei circuiti grazie a parametri di deposizione strettamente controllati.

Target planare di stagno, imballaggio del target Sn

Il target planare di stagno, target di Sn, è confezionato in sacchetti antistatici e con barriera contro l'umidità, fissati in contenitori imbottiti e rivestiti di schiuma. L'imballaggio impiega misure di controllo della contaminazione per prevenire l'ingresso di particelle e l'ossidazione durante il trasporto. Si raccomanda lo stoccaggio in un ambiente a temperatura controllata. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui la sigillatura sottovuoto e l'etichettatura specializzata, per soddisfare requisiti di manipolazione specifici.

Informazioni aggiuntive

Lo stagno, rappresentato chimicamente come Sn, svolge un ruolo fondamentale in vari processi metallurgici e di deposizione. Le sue proprietà, tra cui un punto di fusione relativamente basso e un requisito di purezza elevato, lo rendono un materiale critico nelle applicazioni di sputtering. La comprensione del comportamento del materiale in condizioni di stress termico e meccanico è essenziale per ottenere la coerenza durante la deposizione del film.

Nella scienza dei materiali, le caratteristiche dei target di stagno influenzano direttamente la microstruttura del film e l'adesione nei processi di rivestimento. I progressi nella producibilità e nelle tecniche di trattamento superficiale continuano a migliorare la funzionalità dello stagno nella produzione di dispositivi elettronici e industriali, contribuendo all'efficienza complessiva del processo e alle prestazioni del prodotto.