ST11210 Target planare in carburo di silicio, target SiC

Descrizione del target planare in carburo di silicio, target SiC

Il target planare in carburo di silicio, target SiC, è prodotto in carburo di silicio (SiC) e progettato con una struttura planare per supportare i processi di deposizione sputtering. Le dimensioni personalizzabili facilitano l'integrazione in vari sistemi di sputtering. L'inerzia chimica intrinseca e l'elevato punto di fusione del SiC contribuiscono a mantenere stabili i tassi di deposizione e le proprietà uniformi del film, un aspetto critico negli ambienti di produzione di semiconduttori e ceramiche.

Target planare in carburo di silicio, caratteristiche del target SiC

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo un riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare in carburo di silicio, target SiC Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nella deposizione di film sottili per ottenere strati di rivestimento uniformi sfruttando la sua inerzia chimica e l'elevato punto di fusione.
- Applicato come barriera di diffusione nei dispositivi a semiconduttore per mantenere l'integrità del film durante la lavorazione ad alta temperatura.

Industriale
- Serve come fonte nei sistemi di rivestimento al plasma per migliorare la durata della superficie, sfruttando la stabilità del materiale a temperature elevate.
- Utilizzato nella lavorazione della ceramica per depositare film resistenti all'usura sfruttando la microstruttura del bersaglio.

Automotive
- Utilizzato nella fabbricazione di componenti di sensori per produrre strati protettivi sfruttando la stabilità chimica del carburo di silicio.

Target planare in carburo di silicio, target packing SiC

Il target planare in carburo di silicio, target SiC, è confezionato in un involucro statico-dissipativo e fissato in un contenitore che assorbe gli urti. L'imballaggio utilizza materiali inerti per prevenire la contaminazione ed è progettato per essere conservato in condizioni controllate e asciutte per evitare l'umidità e le fluttuazioni di temperatura. Sono disponibili opzioni personalizzate, tra cui la sigillatura sottovuoto e la containerizzazione specializzata, per mantenere l'integrità del prodotto durante la spedizione e la movimentazione.

Informazioni aggiuntive

Il carburo di silicio è un materiale ceramico noto per la sua elevata conducibilità termica e inerzia chimica. Queste caratteristiche lo rendono adatto alla lavorazione ad alta temperatura e alle applicazioni in ambienti difficili. Le sue proprietà intrinseche contribuiscono a mantenere la stabilità delle prestazioni in condizioni che richiedono una degradazione minima del materiale.

Nella scienza dei materiali, il controllo preciso dei parametri di processo e delle caratteristiche del materiale è essenziale. L'uso del carburo di silicio nei target di sputtering esemplifica l'integrazione di microstrutture ingegnerizzate con prestazioni funzionali. Queste applicazioni favoriscono i progressi nella produzione di semiconduttori e ceramiche, consentendo la deposizione costante di film sottili e il controllo dei risultati del processo.