ST11208 Target planare al silicio, target Si

Descrizione del target planare al silicio, target Si

Il target planare al silicio, Si Target, è prodotto con silicio di elevata purezza e presenta una superficie meticolosamente planare, necessaria per la deposizione coerente di film nei processi di sputtering. Le sue dimensioni personalizzate garantiscono la compatibilità con le apparecchiature standard per semiconduttori, mentre la planarità controllata riduce al minimo gli effetti dei bordi durante lo sputtering. Queste caratteristiche migliorano l'uniformità di deposizione e ottimizzano le prestazioni dei dispositivi a base di silicio nella produzione di semiconduttori.

Target planare al silicio, caratteristiche del target Si

Le informazioni sul prodotto sopra riportate si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare al silicio, applicazioni del target Si

Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nella produzione di semiconduttori per ottenere una deposizione uniforme di film di silicio sfruttando la sua finitura planare controllata.
- Applicato come sorgente di deposizione per i materiali di gate nella fabbricazione di transistor per migliorare la coerenza del dispositivo.

Industriale
- Impiegato nei processi di rivestimento di film sottili per la produzione di celle solari, per ottimizzare l'efficienza di conversione energetica garantendo uno strato di silicio uniforme.
- Utilizzato come fonte nelle applicazioni di ricerca per sviluppare materiali avanzati con proprietà elettroniche personalizzate, grazie alle sue dimensioni personalizzabili.

Target planare di silicio, imballaggio del target Si

Il target planare di silicio, target Si, è confezionato con materiali puliti e antistatici e racchiuso in contenitori rigidi rivestiti di schiuma per evitare stress meccanici e contaminazione. Il design dell'imballaggio supporta condizioni di conservazione controllate, tra cui la regolazione della temperatura e il controllo dell'umidità. Sono disponibili ulteriori opzioni di personalizzazione, come la sigillatura sottovuoto e i contenitori a compartimenti stagni, per soddisfare requisiti specifici di stoccaggio e trasporto.

Ulteriori informazioni

Il silicio rimane un materiale cruciale nella scienza dei materiali e nella lavorazione dei semiconduttori grazie alle sue proprietà elettroniche intrinseche e alla sua abbondanza. I bersagli sputtering derivati dal silicio sono fondamentali per i processi di deposizione di film sottili utilizzati nella fabbricazione di circuiti integrati e dispositivi optoelettronici. I progressi nelle tecniche di deposizione continuano ad ampliare i confini delle prestazioni dei materiali nelle tecnologie dei semiconduttori di prossimo livello.

Inoltre, la comprensione della relazione tra purezza del materiale, finitura superficiale ed efficienza dello sputtering è essenziale per l'ottimizzazione del processo. La caratterizzazione dettagliata e il controllo di qualità hanno un impatto significativo sull'affidabilità dei film ottenuti, sostenendo la ricerca e lo sviluppo in corso in vari settori industriali.