ST11205 Bersaglio rotante al nichel vanadio, bersaglio NiV

Descrizione del target rotante al nichel vanadio, NiV Target

Il target rotante al nichel vanadio, target NiV, è stato progettato per applicazioni di sputtering magnetronico, facilitando la deposizione di film di nichel-vanadio con proprietà controllate. Le dimensioni personalizzabili del target consentono l'integrazione con diversi sistemi di sputtering, garantendo che lo spessore e l'uniformità del film soddisfino i rigorosi requisiti di processo. La stabilità chimica intrinseca della lega di nichel-vanadio supporta le applicazioni in cui l'integrità e la precisione del film sono fondamentali. La migliore finitura superficiale riduce al minimo la contaminazione da particolato durante la deposizione.

Bersaglio rotante di nichel-vanadio, caratteristiche del bersaglio NiV

*Le informazioni sui prodotti di cui sopra si basano su dati teorici e servono solo come riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Bersaglio rotante di nichel vanadio, applicazioni del bersaglio NiV

Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nella produzione di semiconduttori per ottenere una deposizione uniforme di film sottile sfruttando dimensioni personalizzabili.

Industria
- Applicato come fonte di rivestimento nei sistemi tribologici per ridurre l'usura utilizzando la composizione controllata della lega del target.

Commerciale
- Serve come bersaglio nei sistemi di placcatura decorativa per ottenere finiture superficiali uniformi sfruttando un controllo preciso della deposizione del film.

Bersaglio rotante al nichel vanadio, imballaggio del bersaglio NiV

I target rotanti al nichel vanadio sono confezionati in contenitori protettivi in acciaio inox rivestiti di schiuma che riducono al minimo i danni fisici durante il trasporto e lo stoccaggio. L'imballaggio include un'atmosfera di gas inerte per ridurre i rischi di ossidazione e impiega materiali barriera contro l'umidità per prevenire la contaminazione. Si raccomanda lo stoccaggio in condizioni di temperatura e umidità controllate. Su richiesta, sono disponibili soluzioni di confezionamento personalizzate, come opzioni antistatiche e sottovuoto, per soddisfare requisiti di manipolazione specifici.

Informazioni aggiuntive

Le leghe di nichel-vanadio sono ampiamente utilizzate nelle applicazioni di sputtering grazie alle loro proprietà fisiche stabili e alle prestazioni costanti in condizioni di plasma. La comprensione dell'interazione tra la composizione del target e i parametri di sputtering è essenziale per ottenere una deposizione uniforme del film nei processi di produzione.

La scelta dei materiali per i target di sputtering influisce significativamente sulla qualità dei film sottili prodotti in settori che vanno dalla produzione di semiconduttori ai rivestimenti decorativi. La ricerca sul comportamento delle leghe in condizioni di sputtering prolungato continua a migliorare l'efficienza dei processi e le prestazioni dei materiali in vari contesti industriali.