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ST11204 Bersaglio rotante di nichel-niobio, bersaglio NiNb

Catalogo no. ST11204
Composizione Ni, Nb
La purezza ≥99,5%, o personalizzato
Forma Obiettivo
Forma Tubolare
Dimensioni Personalizzato

Il target rotante in nichel-niobio, NiNb Target, è prodotto da una lega di nichel-niobio progettata per applicazioni di sputtering. Prodotto dalla Stanford Advanced Materials (SAM), il target è sottoposto a rigorose analisi chimiche e a un'ispezione della qualità superficiale mediante microscopia elettronica per verificare l'omogeneità della lega e l'integrità strutturale. SAM impiega la metrologia quantitativa nelle fasi critiche della produzione per confermare l'accuratezza dimensionale e la composizione del materiale, assicurando che il target soddisfi le rigorose specifiche di processo.

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FAQ

In che modo la composizione del nichel-niobio influenza le prestazioni dello sputtering?

La composizione della lega Ni-Nb influisce sull'erosione del bersaglio e sull'uniformità di deposizione. Una lega ben controllata riduce al minimo le variazioni di composizione, assicurando che i rendimenti dello sputtering rimangano costanti per un funzionamento prolungato. L'analisi dettagliata dei materiali viene utilizzata per verificare l'omogeneità della lega, che è fondamentale per le applicazioni che richiedono una deposizione uniforme di film sottili.

Quali metodi di preparazione della superficie vengono utilizzati per questi obiettivi rotanti?

I target sono in genere sottoposti a una lavorazione di precisione, seguita da un'incisione chimica controllata e da una profilatura della superficie. Questi processi riducono la rugosità della superficie e contribuiscono a ottenere un rendimento di sputtering uniforme. La successiva analisi al microscopio conferma che la finitura soddisfa le tolleranze ingegneristiche richieste.

Che impatto hanno le dimensioni personalizzate sull'integrazione con i sistemi di sputtering?

Le dimensioni personalizzate consentono al target di adattarsi alle specifiche configurazioni di fissaggio e montaggio delle apparecchiature. Ciò garantisce un contatto ottimale e una distribuzione efficiente del calore durante il funzionamento, che a sua volta favorisce tassi di deposizione costanti e una durata prolungata del target.

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