ST11200 Bersaglio rotante all'ossido di niobio, bersaglio NbOx

Descrizione del target rotante all'ossido di niobio, target NbOx

Il target rotante in ossido di niobio, target NbOx, è stato sviluppato per i processi di sputtering nella deposizione di film sottili. Realizzato con tecniche di sinterizzazione di precisione, il target offre una microstruttura controllata e un'uniformità compositiva che contribuiscono a tassi di deposizione costanti. Le sue dimensioni personalizzabili consentono l'integrazione con le apparecchiature standard per semiconduttori e rivestimenti. I trattamenti superficiali dettagliati riducono la densità dei difetti, rendendolo applicabile per applicazioni avanzate di rivestimento catalitico e anticorrosione.

Target rotante all'ossido di niobio, caratteristiche del target NbOx

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Obiettivo rotante all'ossido di niobio, NbOx Target Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nella deposizione di film sottili di semiconduttori per ottenere uno spessore uniforme del film sfruttando una microstruttura controllata.

Industria
- Applicato come materiale di rivestimento nei trattamenti anticorrosione per attenuare la degradazione sfruttando le sue proprietà di ossido inerte.

Processi catalitici
- Serve come supporto per catalizzatori nei reattori chimici per migliorare l'efficienza della reazione fornendo una superficie stabile e costante.

Bersaglio rotante in ossido di niobio, imballaggio del bersaglio NbOx

Il target è confezionato in una cassa antistatica rivestita di schiuma con inserti spurgati da gas inerte per evitare l'impatto fisico e la contaminazione. È sigillato per ridurre al minimo l'ossidazione e conservato in condizioni di temperatura controllata e bassa umidità. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate per soddisfare requisiti specifici di manipolazione e trasporto in ambienti controllati.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering svolgono un ruolo fondamentale nei processi avanzati di deposizione di film sottili. La comprensione della relazione tra la composizione del target e l'uniformità di deposizione è essenziale per ottenere caratteristiche precise del film. L'ossido di niobio, in particolare, è degno di nota per la sua stabilità chimica e la sua microstruttura controllata, che lo rendono adatto alle applicazioni industriali più esigenti.

I progressi nella scienza dei materiali hanno permesso di migliorare le tecniche di sintesi, che migliorano le prestazioni dei target a base di ossido. Le rigorose valutazioni della qualità, come la diffrazione a raggi X e la microscopia elettronica, forniscono una visione più approfondita del comportamento del materiale durante i processi di sputtering, a vantaggio sia della ricerca che degli ambienti di produzione industriale.