ST11199 Bersaglio planare di pentossido di niobio, bersaglio Nb2O5

Descrizione del target planare in pentossido di niobio, Nb2O5

Il target planare di pentossido di niobio, Nb2O5, è stato progettato per applicazioni di sputtering nella deposizione di film sottili. Grazie alla sua struttura planare, il target facilita il trasferimento uniforme del materiale e riduce al minimo le variazioni locali di densità. La composizione di Nb2O5 ad alta purezza supporta la deposizione controllata di film utilizzati nei sistemi elettronici e catalitici. Le sue dimensioni personalizzate consentono la compatibilità con le apparecchiature di sputtering standard, fornendo un'interfaccia coerente per i processi sperimentali e industriali.

Target planare in pentossido di niobio, Nb2O5 Caratteristiche del target

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare di pentossido di niobio, target Nb2O5 Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nei sistemi di deposizione per la fabbricazione di sottili strati conduttivi o dielettrici per ottenere una qualità uniforme del film sfruttando la sua elevata omogeneità superficiale.

Produzione di catalizzatori
- Applicato come precursore nella formulazione di catalizzatori per migliorare l'efficienza di reazione sfruttando la sua stabilità chimica e il preciso controllo della composizione.

Ricerca sui materiali
- Utilizzato come substrato di ricerca nei laboratori di materiali avanzati per studiare le proprietà ottiche ed elettriche dei composti di niobio sfruttando la sua geometria planare controllata.

Target planare di pentossido di niobio, imballaggio del target Nb2O5

Il target è confezionato in involucri protettivi per camera bianca rivestiti di schiuma inerte per ridurre al minimo le sollecitazioni meccaniche e i rischi di contaminazione. Viene sigillato in un involucro antistatico e resistente alla contaminazione e conservato in un contenitore a temperatura controllata. Sono disponibili configurazioni di confezionamento personalizzate, compresi design degli scomparti ed etichettatura su misura. Per mantenere l'integrità del target, si raccomanda di conservarlo correttamente in un ambiente asciutto e controllato.

Ulteriori informazioni

Gli ossidi di metalli di transizione come l'Nb2O5 svolgono un ruolo importante nei processi di sputtering grazie alle loro stabili proprietà chimiche e termiche. La loro sintesi controllata e le regolazioni dimensionali sono fondamentali per consentire la deposizione di film precisi in applicazioni di semiconduttori e catalizzatori.

La comprensione delle proprietà cristallografiche e di fase del pentossido di niobio contribuisce al progresso della scienza dei materiali. Con il proseguire della ricerca, il perfezionamento delle tecniche di lavorazione ne migliora ulteriormente le prestazioni in ambito industriale e di laboratorio.