ST11197 Bersaglio planare di niobio, bersaglio di Nb

Descrizione del target planare di niobio, target Nb

Il target planare di niobio, Nb Target, è prodotto con niobio metallico di elevata purezza, lavorato specificamente per applicazioni di sputtering. Il suo design planare garantisce una deposizione uniforme e la compatibilità con un'ampia gamma di sistemi di sputtering. Le dimensioni personalizzate soddisfano i vari requisiti dei substrati, mentre la lavorazione controllata del materiale riduce al minimo i difetti interni. La composizione omogenea del target è vantaggiosa per i processi di deposizione nelle applicazioni dei semiconduttori e dei rivestimenti, in quanto migliora l'uniformità del film.

Target planare di niobio, caratteristiche del target Nb

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare di niobio, applicazioni del target Nb

Elettronica
- Utilizzato come sorgente di sputtering nella produzione di semiconduttori per ottenere una deposizione uniforme di film sottile sfruttando una composizione controllata, che migliora la coerenza nella produzione di dispositivi elettronici.

Lavorazione industriale
- Applicato come target di rivestimento nei sistemi di ingegneria delle superfici per migliorare l'adesione del film. La purezza controllata del niobio riduce al minimo i difetti microstrutturali, contribuendo alla stabilità del processo.

Ricerca e sviluppo
- Serve come bersaglio personalizzabile nelle configurazioni sperimentali di sputtering per studiare i parametri di deposizione. Le proprietà verificate del materiale consentono una variazione sistematica e una raccolta dati affidabile.

Target planare di niobio, Nb Target Packing

Il target planare di niobio, target Nb, è confezionato in un contenitore imbottito e antistatico per evitare danni meccanici e contaminazione durante il trasporto. Il target è avvolto in una pellicola protettiva e fissato in una scatola rigida. Si consiglia la conservazione in un ambiente a bassa umidità e temperatura controllata. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui la sigillatura sottovuoto e l'etichettatura aggiuntiva, per soddisfare requisiti di manipolazione specifici.

Informazioni aggiuntive

Il niobio è ampiamente utilizzato nelle applicazioni dei target di sputtering grazie al suo elevato punto di fusione e all'inerzia chimica. Le proprietà intrinseche dell'elemento facilitano la deposizione uniforme del film in varie condizioni di processo. Metodi di caratterizzazione dettagliati come XRD e SEM sono essenziali per garantire che i target soddisfino precisi requisiti di composizione e meccanici.

I progressi nella scienza dei materiali hanno migliorato le tecniche di lavorazione dei target di niobio. Un maggiore controllo sulla purezza e sulla morfologia superficiale porta a una migliore riproducibilità nei processi di deposizione di film sottili, che è fondamentale per le applicazioni nell'industria elettronica e dei rivestimenti.