ST11195 Target planare in carburo di molibdeno, target Mo2C

Descrizione del target planare in carburo di molibdeno, Mo2C Target

Il target planare in carburo di molibdeno, Mo2C Target è prodotto in carburo di molibdeno (Mo2C), un composto noto per la sua elevata stabilità termica e chimica. Il design planare del target assicura che lo sputtering produca film con spessore costante e microstruttura uniforme. Questo attributo è essenziale per le applicazioni che richiedono tolleranze ristrette nella deposizione del film, rendendolo adatto a processi precisi di fabbricazione di film sottili.

Target planare in carburo di molibdeno, caratteristiche del target Mo2C

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare in carburo di molibdeno, target Mo2C Applicazioni

Elettronica e lavorazione dei semiconduttori
- Utilizzato come target di sputtering nella produzione di semiconduttori per ottenere film conduttivi uniformi sfruttando la sua composizione uniforme e la sua superficie piatta.
- Applicato nella deposizione di film sottili per il monitoraggio di componenti di sensori, per garantire uno spessore e una densità accurati del film.

Rivestimento industriale e ingegneria delle superfici
- Serve come materiale di partenza nei sistemi di deposizione fisica da vapore per fornire rivestimenti protettivi con microstruttura controllata, sfruttando la sua elevata stabilità termica.
- Viene spesso utilizzato nel rivestimento di utensili e componenti per migliorare la durezza della superficie e ridurre al minimo i rischi di contaminazione.

Target planare in carburo di molibdeno, imballaggio del target Mo2C

Il target è confezionato in un contenitore antistatico sigillato sotto vuoto con inserti di schiuma ammortizzante per ridurre al minimo le sollecitazioni meccaniche e la contaminazione. L'imballaggio è progettato per essere conservato in condizioni ambientali controllate per mantenere l'integrità del materiale. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, come dimensioni ed etichettatura su misura, per soddisfare requisiti specifici di manipolazione e conservazione.

Informazioni aggiuntive

Il carburo di molibdeno è noto per la sua eccellente stabilità termica e resistenza chimica, che lo rendono una scelta comune per gli ambienti di sputtering ad alta temperatura. Le sue proprietà sono fondamentali per stabilire condizioni di deposizione stabili in applicazioni in cui l'uniformità influenza direttamente le prestazioni del film sottile.

Nei processi di sputtering, la compatibilità del materiale con vari substrati e il suo comportamento costante in condizioni di plasma ad alta energia sono fattori chiave. Questo prodotto rientra in una categoria più ampia di target di sputtering in cui le microstrutture e la composizione controllate migliorano l'efficienza complessiva della fabbricazione dei dispositivi.